Het Magnetron die van het de deurhandvat van de zinklegering Vacuümdeklaageenheden sputteren: Gelijkstroom, MF, de sputterende kathoden van rf voor R&D-doel kan monolayer, diëlektrische film, samenstellingsfilm, halfgeleider, veelvoudige lagen, samengestelde film, en diëlektrische films enz. krijgen
Het Magnetron die van het de deurhandvat van de zinklegering de Technische Prestaties van Vacuümdeklaageenheden sputteren:
1 uiteindelijke Vacuümdruk: dan beter 5.0×10-6 Torr.
2. Werkende Vacuümdruk: 1.0×10-4 torr.
3. Pumpingdowntijd: van 1 ATM aan 1.0×10-4 Torr≤ 3 minuten (kamertemperatuur, droge, schone en lege kamer)
4. Metalizings materieel (sputterend) Al, Cr, Sn, Ti, SS, Cu… enz.
5. Werkend Model: Volledig automatisch /Semi-Auto/ manueel
Het Magnetron die van het de deurhandvat van de zinklegering de Structuur van Vacuümdeklaageenheden sputteren
1. Luchtledige kamer
2. Rouhgings Vacuüm Pompend Systeem (Steunend Pomppakket)
3. Hoog Vacuüm Pompend Systeem (Verspreidingspomp)
4. Elektrocontrole en Verrichtingssysteem
5. Het Systeem van de Auxiliarryfaciliteit (Subsysteem)
6. Depositosysteem
