Bericht versturen

DPC de Ceramische Uitstralende Machine van de Substraatpvd Vacuümdeklaag, de Sputterende Deklaag van het Kuipermagnetron

1 set
MOQ
negotiable
Prijs
DPC de Ceramische Uitstralende Machine van de Substraatpvd Vacuümdeklaag, de Sputterende Deklaag van het Kuipermagnetron
Kenmerken Galerij Productomschrijving Verzoek om een Citaat
Kenmerken
Specificaties
Kamer: Verticale richtlijn, 1 deur
Depositofilms: Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr enz.
Toepassingen: Al2O3, ceramische de kringsraad van AlN, Al2O3 platen op leiden, halfgeleider
Filmeigenschappen: beter Warmtegeleidingsvermogen, sterke hoge adhesie, - dichtheid, lage productiekost
Fabrieksplaats: De stad van Shanghai, China
De Dienst wereldwijd: Polen - Europa; Van West- Iran Azië & Midden-Oosten, Turkije, India, Mexico Zuid-Amerika
De opleidende Dienst: Machineverrichting, onderhoud, die procesrecepten, programma met een laag bedekken
De opleidende Dienst: Machineverrichting, onderhoud, die procesrecepten, programma met een laag bedekken
Garantie: Beperkte garantie 1 jaar voor het vrije, gehele leven voor machine
Garantie: Beperkte garantie 1 jaar voor het vrije, gehele leven voor machine
Garantie: Beperkte garantie 1 jaar voor het vrije, gehele leven voor machine
OEM & ODM: beschikbaar, steunen wij op maat gemaakte ontwerp en vervaardiging
OEM & ODM: beschikbaar, steunen wij op maat gemaakte ontwerp en vervaardiging
OEM & ODM: beschikbaar, steunen wij op maat gemaakte ontwerp en vervaardiging
Hoog licht:

silver plating machine

,

vacuum plating equipment

Basis informatie
Plaats van herkomst: Made in China
Merknaam: ROYAL
Certificering: ISO, CE, UL standard
Modelnummer: Rtac1215-SP
Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden
Verpakking Details: De uitvoernorm, dat in nieuwe gevallen/kartons moet worden ingepakt, geschikt voor oceaan/lucht over
Levertijd: 12 weken
Betalingscondities: BEVESTIGINGSBRIEF, D/A, D/P, T/T
Levering vermogen: 6 reeksen per maand
Productomschrijving

 

Keramisch uitstralend substraat Cooper Magnetron Sputterdeklaaginstallatie / Keramische spaanders Rechtstreeks plateren van kopersputterapparatuur

 

Cooper Magnetron sputtercoatinginstallatie op keramisch uitstralend substraat

Het DPC-proces - Direct Plating Copper is een geavanceerde coatingtechnologie die wordt toegepast bij LED- / halfgeleider- / elektronische industrieën.Een typische toepassing is keramisch stralingssubstraat.

Cooper geleidende filmafzetting op Al2O3, AlN, Si, Glassubstraten door PVD vacuüm sputtertechnologie, vergeleken met traditionele productiemethoden: DBC LTCC HTCC, de kenmerken:

1. Veel lagere productiekosten.

2. Uitstekende prestaties op het gebied van thermisch beheer en warmteoverdracht

3. Nauwkeurige uitlijning en patroonontwerp,

4. Hoge circuitdichtheid:

5. Goede hechting en soldeerbaarheid

 

Het koninklijke technologieteam hielp onze klant om het DPC-proces met succes te ontwikkelen met PVD-sputtertechnologie.
Vanwege de geavanceerde prestaties worden de DPC-substraten veel gebruikt in verschillende toepassingen:

Hoge helderheid LED om de lange levensduur te verlengen vanwege zijn hogewarmtestralingprestaties, halfgeleiderapparatuur, draadloze microgolfcommunicatie, militaire elektronica, verschillende sensorsubstraten, ruimtevaart, spoorwegvervoer, elektriciteit, enz

 

RTAC1215-SP-apparatuur is exclusief ontworpen voor DPC-processen die de kuiperlaag op substraten krijgen.Deze apparatuur maakt gebruik van het PVD-principe van fysieke dampafzetting, met multi-arc ionplating en magnetronsputtertechnieken om de ideale film te verkrijgen met een hoge dichtheid, hoge slijtvastheid, hoge hardheid en sterke binding in een hoogvacuümomgeving.Het is de cruciale stap voor het rust-DPC-proces.

 

Koperen sputterende coatingmachine Belangrijkste kenmerken:

 

1. Uitgerust met 8 gestuurde boogkathoden en DC-sputterkathodes, MF-sputterkathodes, ionenbroneenheid.

2. Meerlagige en co-depositie coating beschikbaar

3. Ionenbron voor voorbehandeling van plasmareiniging en ionenbundel-geassisteerde depositie om de filmadhesie te verbeteren.

4. Verwarmingseenheid voor keramische/Al2O3/AlN-substraten;

5. Substraatrotatie- en omwentelingssysteem, voor 1-zijdige coating en 2-zijdige coating.

 

 

Specificaties koperen sputtercoatingmachine:

 

Prestatie

1. Ultieme vacuümdruk: beter dan 5,0 × 10-6Torr.

2. Bedrijfsvacuümdruk: 1.0×10-4Torr.

3. Afpomptijd: van 1 atm tot 1.0×10-4Torr≤ 3 minuten (kamertemperatuur, droge, schone en lege kamer)

4. Metaliserend materiaal (sputteren + boogverdamping): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr enz.

5. Bedrijfsmodel: volledig automatisch / semi-automatisch / handmatig;

 

Structuur

De vacuümcoatingmachine bevat het belangrijkste voltooide systeem dat hieronder wordt vermeld:

1. Vacuümkamer

2. Rouhging Vacuümpompsysteem (Backing Pump Package)

3. Hoogvacuümpompsysteem (moleculaire pomp met magnetische ophanging)

4. Elektrisch controle- en besturingssysteem

5. Hulpvoorzieningssysteem (subsysteem)

6. Afzettingssysteem

 

DPC de Ceramische Uitstralende Machine van de Substraatpvd Vacuümdeklaag, de Sputterende Deklaag van het Kuipermagnetron 0Monsters

 

DPC de Ceramische Uitstralende Machine van de Substraatpvd Vacuümdeklaag, de Sputterende Deklaag van het Kuipermagnetron 1

DPC de Ceramische Uitstralende Machine van de Substraatpvd Vacuümdeklaag, de Sputterende Deklaag van het Kuipermagnetron 2

DPC de Ceramische Uitstralende Machine van de Substraatpvd Vacuümdeklaag, de Sputterende Deklaag van het Kuipermagnetron 3

 

 

 

 

Neem contact met ons op voor meer specificaties, Royal Technology is vereerd om u totale coatingoplossingen te bieden.

Geadviseerde Producten
Neem contact op met ons
Fax : 86-21-67740022
Resterend aantal tekens(20/3000)