Van de de ringenpvd Dunne Film van de juwelenprecisie de Deklaagmachine, Nano Dunne Film PVD Depostion
Waarom ons?
Het geavanceerde productiemechanisme (malen, lassen, knipsel, vacuümlek die testen die) met gestandaardiseerde productieprocedures en strikte tests wordt gecombineerd laat Koninklijke Technologie toe om hoogte te veroorzaken - de systemen van de kwaliteit, betrouwbare en lage kostendeklaag.
De kwaliteit, de dienst en op tijd de levering zijn de kernprincipes van de zaken van de Koninklijke technologie. Een strategie om eenvoudige componenten aan professionele vervaardiging openlijk te delocaliseren staat ons toe om aandacht aan essentiële onderdelen en componenten R&D, productie te concentreren.
Het strikte kwaliteitscontrolebeleid en de strenge selectie van gekwalificeerde leveranciers verzekeren de klanten van de Koninklijke Technologie het meest geavanceerd, high-end betaalbare kosten van het kwaliteitsmateriaal de hoogstens ontvangen.
Dunne de Filmeigenschappen van PVD
Van de de ringenpvd die wordt de Dunne Film van de juwelenprecisie het Platerenmachine toegepast met bevestigingsmiddelen en de montage zoals schroeven, bouten, verbrijzeling, montage, kappen in schoonheidsmiddelen, elektronische producten, mechanische machines worden gebruikt, de automobielindustrieën wijd gebruikt de PVD-technologie om verscheidenheid van Panton-kleuren, waaier van goud, zwarte, blauw, grijs, zilver, regenboog, brons, champage enz. te krijgen.
Van de de ringenpvd Dunne Film van de juwelenprecisie van de het Platerenmachine het Depositobronnen
Gestuurde Cirkelboogbronnen voor verdamping van stevig metaaldoel;
2 paren van MF unblanced sputterende kathoden voor het grafiet dunne deposito van de filmlaag;
Bias Voeding voor ionenbomboardment om het plasmagebied voor voorbehandeling te vormen;
Anode Lineaire Ionen Broneenheid (voor facultatief) de verwerking van PACVD en PECVD-;
Cryopump (Polycold) voor water moleculaire condensatie (voor facultatief)
Van de de ringenpvd de Dunne Film van de juwelenprecisie Structuren van de het Platerenmachine
1. Luchtledige kamer
2. Rouhgings Vacuüm Pompend Systeem (Steunend Pomppakket)
3. Hoog Vacuüm Pompend Systeem (magnetisch Opschortings Moleculaire Pomp)
4. Elektrocontrole en Verrichtingssysteem
5. Het Systeem van de Auxiliarryfaciliteit (Subsysteem)
6. Depositosysteem: MF sputterende kathode, MF voeding, Bias Voeding Ionenbron voor facultatief
Van de de ringenpvd de Dunne Film van de juwelenprecisie Prestaties van het Platerenmachin
1. Uiteindelijke Vacuümdruk: dan beter 5.0×10-6 Torr.
2. Werkende Vacuümdruk: 1.0×10-4 torr.
3. Pumpingdowntijd: van 1 ATM aan 1.0×10-4 Torr≤ 3 minuten (kamertemperatuur, droge, schone en lege kamer)
4. Metalizingsmateriaal die (+ Boogverdamping sputteren): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, Tin, Tic, TiAlN, CrN, CrC, enz.
5. Werkend Model: Volledig automatisch /Semi-Auto/ manueel
Van de de ringenpvd de Dunne Film van de juwelenprecisie Specificaties van het Platerenmachin
MODEL | Rtac1250-SPMF | ||||||
TECHNOLOGIE | MF Magnetron die + Ionenplateren sputteren | ||||||
MATERIAAL | Roestvrij staal (S304) | ||||||
KAMERgrootte | Φ1250 * H1250mm | ||||||
KAMERtype | Cilinder, verticaal, 1 deur | ||||||
SPUTTEREND SYSTEEM | Uitsluitend ontwerp voor dun zwart filmdeposito | ||||||
DEPOSITOmateriaal | Aluminium, Zilver, Koper, Chrome, Roestvrij staal, Nikkel |
||||||
DEPOSITObron | 2 reeksen MF het Cilindrische Sputteren richt + 8 Gestuurde Kathodische Boogbronnen + Ionenbron voor facultatief | ||||||
GAS | MFC- 4 manieren, AR, N2, O2, C2H2 | ||||||
CONTROLE | PLC (Programmeerbaar Logicacontrolemechanisme) + | ||||||
POMPsysteem | SV300B - 1 reeks (Leybold) | ||||||
WAU1001 - 1 reeksen (Leybold) | |||||||
D60T- 1 reeks (Leybold) | |||||||
Turbo Moleculaire Pompen: 2* F-400/3500 | |||||||
VOORBEHANDELING | Bias voeding: 1*36 kW | ||||||
VEILIGHEIDSsysteem | Talrijke veiligheidskoppelingen om exploitanten te beschermen | ||||||
Het KOELEN | Koud Water | ||||||
MACHT ELEKTRO | 480V/3 phases/60HZ (volgzame de V.S.) | ||||||
460V/3 phases/50HZ (volgzaam Azië) | |||||||
380V/3 phases/50HZ (volgzaam EU-Ce) | |||||||
VOETAFDRUK | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
TOTAAL GEWICHT | 7.0 T | ||||||
VOETAFDRUK | (L*W*H) MM. VAN 5000*4000 *4000 | ||||||
CYCLUSDUUR | 30~40 minuten (afhankelijk van substraatmateriaal, substraatmeetkunde en milieuvoorwaarden) |
||||||
MACHTSmax. | 155 kW | ||||||
GEMIDDELDE MACHT CONSUMPTIE (ONG.) |
75 kW |
De aangepaste die machinegrootte is ook beschikbaar op gespecificeerde geëiste producten wordt gebaseerd.
Tevreden om ons voor meer specificaties te contacteren, is de Koninklijke Technologie geëerd om u te verstrekken totale deklaagoplossingen.