Bericht versturen

Het gesloten Gebied bracht Magnetron Sputterend Systeem, Ce Verklaarde uit zijn evenwicht PVD Ion Plating Machine

1 set
MOQ
Het gesloten Gebied bracht Magnetron Sputterend Systeem, Ce Verklaarde uit zijn evenwicht PVD Ion Plating Machine
Kenmerken Galerij Productomschrijving Verzoek om een Citaat
Kenmerken
Specificaties
Technologie: Het gepulseerde Gesloten Gebied Uit zijn evenwicht gebrachte Magnetron Sputteren
Doelstellingen: Ta, Ni, Cr, Ti, Au, Ag, SS, Cu, Zr, Al enz.
Garantie: 12 maanden, Verklaard Ce
Deklaag: PVD-Machine, Vacuümdeklaag
Verleende naverkoop de Dienst: Ingenieurs beschikbaar aan de dienstmachines overzee, onderhoud en reparatie en dienst, installatie
Toepassing: Industriële massieve productie, Laboratorium R&D
Fabrieksplaats: De stad van Shanghai, China
De Dienst wereldwijd: Polen - Europa; Van West- Iran Azië & Midden-Oosten, Turkije, India, Mexico Zuid-Amerika
De Dienst wereldwijd: Polen - Europa; Van West- Iran Azië & Midden-Oosten, Turkije, India, Mexico Zuid-Amerika
De opleidende Dienst: Machineverrichting, onderhoud, die procesrecepten, programma met een laag bedekken
Garantie: Beperkte garantie 1 jaar voor het vrije, gehele leven voor machine
OEM & ODM: beschikbaar, steunen wij op maat gemaakte ontwerp en vervaardiging
Hoog licht:

magnetron sputtering equipment

,

vacuum deposition equipment

Basis informatie
Plaats van herkomst: China
Merknaam: ROYAL
Certificering: CE
Modelnummer: RTSP1000
Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden
Verpakking Details: De uitvoernorm, dat in nieuwe gevallen/kartons moet worden ingepakt, geschikt voor oceaan/lucht over
Levertijd: 10~12 weken
Levering vermogen: 10 sets per maand
Productomschrijving

 

Het gesloten gebied bracht systeem van het magnetron het sputterende deposito uit zijn evenwicht, Uit zijn evenwicht gebracht Magnetron dat Ion Plating sputtert

 

 

 

De uit zijn evenwicht gebrachte en gesloten processen van het gebiedsmagnetron hebben alle voordelen van vlakmagnetronen. De extra voordelen en de nadelen zijn:

  • Extra ionenbombardement dat in dichte, adherente films resulteert
  • Het ion wonen en substraat schoonmaken mogelijk bij
  • Betere tribological, slijtage en corrosiebestendige films
  • Ontvankelijk tot multilayer, superlattice, nanolaminant en nanocomposite films
  • Slechter materialengebruik
  • Complexere kathodeconfiguratie/uitgave

Uit zijn evenwicht gebracht en gesloten gebiedsmagnetron dat hervormde eigenschappen uitvoerbaar door magnetron het sputteren processen sputtert. Als succesvol met betere dunne tribological film, corrosieweerstand en optische eigenschappen aangezien deze technologie was, waren de verbeteringen van magnetrontechnologie net begonnen. Volgende Blog die wij ons op roterende en cilindrische magnetronprocessen hebben bewogen en resulterende dunne filmtoepassingen.

                            - Boven Artikel van P E T E R       M R T I N

 

De koninklijke technologie ontwikkelde hoge opbrengst en de hoge sputterende kathoden van het doelgebruik, vooral voor zeldzame en dure metalen die sputteren:  Au-het Goud, Ta-Tantalium, Ag zilveren metaal filmt deposito.   Het het depositosysteem heeft van de hoge uniformiteitsfilm verscheidene industrieën zoals Elektronikadelen, medische instrumentencomponenten gediend die hoge filmuniformiteit, veelvoudig lagendeposito vereisen.

 

 

 

De RTSP1000-machine is een gestandaardiseerde die machine door Koninklijke technologie wordt ontwikkeld. Uitgebreid toegepast met knipsel/het vormen van hulpmiddelen, vormen, medische instrumenten, elektronikacomponenten, de automobielindustrieën.

 

 

                                                  
RTSP1000 hoofdconfiguraties en Technische Parameters
MODELRTSP1000
TECHNOLOGIEMF magnetron die + het ionen bronplasma schoonmaken sputteren
KAMERmateriaalRoestvrij staal (S304)
KAMERgrootteΦ1000*800mm (h)
KAMERtypeD vorm
OMWENTELINGSrek & KALIBERsysteem6 satellieten Max. gewicht: 500kgs
VOEDINGEN

Qty. van het Sputteren: 2*24 kW Bias Voeding: 1*20W Ion Source Power-levering 1*5KW

DEPOSITOmateriaalTi/Cr/TiAl /Ta/Cu/Au/Carbon enz.
DEPOSITObron2 paren (4 stukken) Vlak Sputterende Kathoden +
1 lineair Ion Source
Uniformiteitsgebied: ±10~15%
CONTROLEPLC (Programmeerbaar Logicacontrolemechanisme) + Touch screen (semi-auto de verrichtingsmodellen van manual+ auto+)
POMPsysteem Roterende Vane Pump: SV300B - 1 reeks (Leybold)
Wortelspomp: WAU1001- 1 reeks (Leybold)
Holdingspomp: D60C- 1 reeks (Leybold)
Magnetische Opschortings Moleculaire Pomp - 1 reeks (Leybold)
DE STROOMcontrolemechanisme VAN DE GASmassa4 die kanalen, in China worden gemaakt, Zeven Ster (Cs-reeks,) digitaal model
VACUÜMmaatModel: Zdf-x-le, in China wordt gemaakt dat: Zdf-x-le
LINEAIRE IONENbron 1 stuk die, plasma die + bijgestaan deposito schoonmaken vooraf behandelen
VEILIGHEIDSsysteemTalrijke veiligheidskoppelingen om exploitanten en materiaal te beschermen
Het VERWARMENVerwarmers: 30KW. Max. temperaturen.: 450℃
Het KOELENIndustriële Harder (Koud Water)
MACHTSmax.100KW (ong.)
GEMIDDELDE MACHTSconsumptie45 kW (ong.)
BRUTOGEWICHTT (ong.)
VOETdruk(L*W*H) MM. VAN 4000*4000 *3200
MACHT ELEKTROAC 380V/3 lijnen phases/50HZ/5

 

 

Hoog doelgebruik vlak het sputteren deposito:  gelieve TE KLIKKEN HIER om op de video te letten
   

Het gesloten Gebied bracht Magnetron Sputterend Systeem, Ce Verklaarde uit zijn evenwicht PVD Ion Plating Machine 0   Het gesloten Gebied bracht Magnetron Sputterend Systeem, Ce Verklaarde uit zijn evenwicht PVD Ion Plating Machine 1

 

 

Lineair Ion Source Plasma Cleaning en Bijgestaan Deposito: gelieve TE KLIKKEN HIER om op video te letten

 

 

Het gesloten Gebied bracht Magnetron Sputterend Systeem, Ce Verklaarde uit zijn evenwicht PVD Ion Plating Machine 2

 

Tevreden om ons voor meer specificaties te contacteren, is de Koninklijke Technologie geëerd om u te verstrekken totale deklaagoplossingen.

 

 

 

Geadviseerde Producten
Neem contact op met ons
Fax : 86-21-67740022
Resterend aantal tekens(20/3000)