| Depositobronnen | Gestuurde Kathodische Boog + MF Sputterende Kathode |
|---|---|
| Techniek | PVD, de Evenwichtige/Uit zijn evenwicht gebrachte Sputterende Kathode van Magentron |
| PVD-Platereneigenschappen | Hoge slijtageweerstand, Hoge hardheid bij hoge werkende temperaturen, Hoge de wrijving van de oxydat |
| Materiaaleigenschap | Betrouwbaar, Flexibel, stabiel, robuust ontwerp, hoge opbrengst, snelle cyclusduur, grote partijcapa |
| Fabrieksplaats | De stad van Shanghai, China |
| Depositobronnen | Kathodische Boogbronnen, DC/MF-magnetron Sputterende Kathoden |
|---|---|
| Gouden PVD-Plateren | Deposito van de de nano-structuur dunne film van Au het gouden, het Gouden dunne filmmagnetron sputt |
| Materiaalgrootte | Dia: 800* 800mm hoogte |
| Toegepaste Industrie | Laboratorium van Universiteiten, R&D-afdeling van de vervaardiging van metaalmaterialen, |
| Fabrieksplaats | De stad van Shanghai, China |
| Kamer | Verticale richtlijn, 2 deuren |
|---|---|
| Materiaal | Roestvrij staal 304/316 |
| Depositobronnen | De Sputterende Kathode van gelijkstroom |
| Techniek | PVD, de Evenwichtige/Uit zijn evenwicht gebrachte Sputterende Kathode van Magentron |
| Toepassingen | decoratie van juwelen, horloge, geleidende filmdeklaag, metaalfilm, elektronika, brandstofcel, fysic |
| Sputterende Doelstellingen | Koolstof, Koper, Aluminium, ITO, Ti, Cr, Roestvrij staal Enz. |
|---|---|
| -Technologie | DC/MF magnetron sputterende kathode |
| Voorafgaande reiniging | Lineaire Anode Ionen bronplasmavoorbehandeling |
| Fabrieksplaats | De stad van Shanghai, China |
| Fabrieksplaats | De stad van Shanghai, China |
| -Technologie | DC/MF magnetron sputterende kathode |
|---|---|
| Voorafgaande reiniging | Lineaire Anode Ionen bronplasmavoorbehandeling |
| Sputterende Kathoden | MF 4 reeksen; Gelijkstroom 2 reeksen |
| Sputterende Doelstellingen | Koolstof, Koper, Aluminium, ITO, Ti, Cr, Roestvrij staal enz. |
| Fabrieksplaats | De stad van Shanghai, China |
| Magnetron Sputterende Kathode | Vlak of Cilinderkathoden |
|---|---|
| Machtsmodel | GELIJKSTROOM, MF |
| Afzettingsbronnen | de kathodische boog, magnetron sputtert |
| Plasma het Schoonmaken | Gepulseerd Bias Plasmabombardement |
| Ionenbron | Het lineaire type van anodelaag |
| Kamer | Verticale Richtlijn, 2 deuren |
|---|---|
| Technologie | Gelijkstroom-Magnetron die Vacuümdeklaag sputteren |
| Depositofilms | Al, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr enz. |
| Toepassingen | Autohub, automobielwielen, het plateren van Chrome PVD |
| Filmeigenschappen | slijtageweerstand, sterke adhesie, decoratieve deklaagkleuren |
| Sputterend Model | Uit zijn evenwicht gebracht/evenwichtig met gelijkstroom, MF, rf |
|---|---|
| Het sputteren Bronnen | Vlak sputter of de Cilinder sputtert |
| Sputterende Doelstellingen | Chromium, Koper, Aluminium, Nikkel, Zilver, Goud, Roestvrij staal |
| Toepassingen | De Randen van het autowiel, Autospiegels, Zilveren en Gouden het Sputteren Deposito, Medisch Instrum |
| Fabrieksplaats | De stad van Shanghai, China |
| Kamer | Verticale richtlijn, 1 deur |
|---|---|
| Materiaal | Roestvrij staal 304/316 |
| Filmeigenschappen | Hoge Weerspiegelende, Uitstekende Corrosie en Slijtageweerstand |
| Fabrieksplaats | De stad van Shanghai, China |
| De Dienst wereldwijd | Polen - Europa; Van West- Iran Azië & Midden-Oosten, Turkije, India, Mexico Zuid-Amerika |
| Depositofilms | Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr enz. |
|---|---|
| Toepassingen | Al2O3, ceramische de kringsraad van AlN, Al2O3 platen op leiden, halfgeleider |
| Filmeigenschappen | beter Warmtegeleidingsvermogen, sterke hoge adhesie, - dichtheid, lage productiekost |
| Fabrieksplaats | De stad van Shanghai, China |
| Fabrieksplaats | De stad van Shanghai, China |
