Het plastic Horizontale Hoge Vacuüm sputtert het Plasma van het Depositosysteem Gelijkstroom het Schoonmaken
Horizontaal Sputterend het Depositomateriaal van gelijkstroom, Hoog Vacuüm Sputterend Depositosysteem
PVD-Magnetron het Sputteren en van Verdampingsmetalizing Systeemtoepassing:
Glasarmbanden, Plastic bestek, Ceramisch, Elektronikaproduct, Cellphone-huisvesting, NCVM-toepassingen, Decoratieve punten, Metaalafwerking.
Het met een laag bedekken van Films: Metaalfilm, semi-transparent film, Mobiele telefoon EMI, NCVM, Diëlektrische film; Beschermende deklaag, functionele deklaag, decoratief filmsdeposito.
Vacuümmetalizing-Substraten: plastiek, glas, metaal, ceramische enz.
Rtep-SP reeksverdamping & van de Magnetron bestaat de Sputterende deklaag machine uit vacuümdeklaagkamer, vacuüm pompend systeem, depositosysteem, koelsysteem, elektrocontrolesysteem, werkstuk roterend rek en ionen bronplasma schoonmakende eenheid. Het is een stuk van de duelfunctie van materiaal, is de verdampingsfunctie een hoogte - het aluminium van de kwaliteitsdeklaag op de oppervlakte van plastiek, hoofdzakelijk: Pp, PC, PS, ABS, PMMA terwijl de magnetron het sputteren functie hoofdzakelijk voor platerenroestvrij staal op de oppervlakte van plastic bestek, automobiel wiel, automobiel deel, enz. wordt gespecialiseerd.
Thermische Verdamping en Sputterende Metalizing-Machineeigenschappen:
Dubbele kamer voor onafhankelijke ladingsverrichtingen.
Vier soorten de wijzen van het deklaagproces beschikbaar voor selectie.
Optie: De generators of het magnetron het sputteren van rf de bron kan voor oppervlaktedeklaag worden geïnstalleerd.
Gebruikt planetarisch omwentelingsmechanisme om goede filmuniformiteit op gebogen oppervlaktesubstraten te bereiken.
Vacuümdeklaag VERSUS het Traditionele Galvaniseren
De afwerking is volledig ecologisch groen;
Hoge glanzende, heldere weerspiegelende kleur;
Hoog volumeproductie, lage kosten, ideale oplossing voor de massaproduktievraag.
| MODEL | Rtep1620-SP | ||
| MATERIAAL | Roestvrij staal (S304) | ||
| KAMERgrootte | Φ1600*2000mm (h) | ||
| KAMERtype | Cilinder, 1 horizontale deur, | ||
| REKsysteem | 6 planetarische Staven * Φ430MM | ||
| VERDAMPINGSbron | Van het koperelektrode en Wolfram Gloeidraden | ||
| SPUTTING BRON | 2 vlak sputterende doelstellingen: Gelijkstroom-het sputteren | ||
| PLASMA HET SCHOONMAKEN | Vlakanode Ionenbron (Gencoa voor optie) | ||
| CONTROLE | PLC (Programmeerbaar Logicacontrolemechanisme) + Touch screen | ||
| POMPsysteem | Roterende Vinvacuümpomp | ||
| Holdingsvacuümpomp | |||
| Wortelsvacuümpomp | |||
| Verspreidingspomp | |||
| VEILIGHEIDSsysteem | Talrijke veiligheidskoppelingen om exploitanten en materiaal te beschermen | ||
| Het KOELEN | Water | ||
| MACHTSmax. | Ong. 170KW | ||
| GEMIDDELDE MACHTSconsumptie | Ong. 80 kW, afhankelijk van daadwerkelijke verrichting | ||
Magnetron het Sputteren Deposito
Het thermische Verdampen Depostion
Tevreden om ons voor meer specificaties te contacteren, is de Koninklijke Technologie geëerd om u te verstrekken totale deklaagoplossingen.
