De eerste machine op DPC-toepassing in China
Achtergrond en projectintroductie:
1. In augustus 2016 ontvingen we een klantvraag en begonnen we met de R&D van het coatingproces
2. In april 2017 werd de machine met succes op de locatie van de klant geïnstalleerd.
3. In 2018 hebben we het ontwerp en de constructie verbeterd, model DPC1215+, 2 sets geleverd aan de klant eind 2018
Machinemodel: RT1200-DPC
Technologie:PVD+PECVD
Plaats:China
Toepassing: keramiek (Al3O2, AlN), glas en Si-substraten,
Het koninklijke technologieteam werkte sinds 2016 samen met onze klant om het DPC-proces met succes te ontwikkelen met PVD-sputtertechnologie.
Het DPC-proces - Direct Plating Copper is een geavanceerde coatingtechnologie die wordt toegepast in LED-, halfgeleider- en elektronische industrieën.Een typische toepassing is keramisch stralingssubstraat.Cooper geleidende filmafzetting op aluminiumoxide (Al2O3), AlN-substraten door PVD-vacuümsputtertechnologie, vergeleken met traditionele productiemethoden: DBC LTCC HTCC, veel lagere productiekosten zijn het hoge kenmerk.
AlstublieftNeem contact met ons opals je meer wilt weten over de techniek en machine.
De eerste machine op DPC-toepassing in China
Achtergrond en projectintroductie:
1. In augustus 2016 ontvingen we een klantvraag en begonnen we met de R&D van het coatingproces
2. In april 2017 werd de machine met succes op de locatie van de klant geïnstalleerd.
3. In 2018 hebben we het ontwerp en de constructie verbeterd, model DPC1215+, 2 sets geleverd aan de klant eind 2018
Machinemodel: RT1200-DPC
Technologie:PVD+PECVD
Plaats:China
Toepassing: keramiek (Al3O2, AlN), glas en Si-substraten,
Het koninklijke technologieteam werkte sinds 2016 samen met onze klant om het DPC-proces met succes te ontwikkelen met PVD-sputtertechnologie.
Het DPC-proces - Direct Plating Copper is een geavanceerde coatingtechnologie die wordt toegepast in LED-, halfgeleider- en elektronische industrieën.Een typische toepassing is keramisch stralingssubstraat.Cooper geleidende filmafzetting op aluminiumoxide (Al2O3), AlN-substraten door PVD-vacuümsputtertechnologie, vergeleken met traditionele productiemethoden: DBC LTCC HTCC, veel lagere productiekosten zijn het hoge kenmerk.
AlstublieftNeem contact met ons opals je meer wilt weten over de techniek en machine.
