Algemene Informatie over PVD-Proces

Algemene Informatie over PVD-Proces

PVD-de processen zijn atomistic depositoproces waarin de materialen die uit een bron worden gelaten verdampen in de vorm van een damp door een vacuüm of lagedruk gasachtig of plasmamilieu aan het substraat wordt vervoerd, waar het condenseert. PVD-de processen kunnen worden gebruikt om films van elementen en molecules en ook van samenstelling te deponeren

materialen door de reactie van het deponeren van materiaal met het omringende gasmilieu. (b.v., Tin) of met mede

het deponeren van materiaal (b.v. Tic). Typisch, PVD-worden de processen gebruikt om films met dikte in de waaier van een paar nanometers aan duizenden nanometers te deponeren; nochtans, kunnen zij worden gebruikt om sorteren-samenstellingsstortingen van multi-layer deklagen, zeer dikke stortingen, en freestanding structuren te vormen.

De koninklijke Technologie poogt onze levensstandaard te verbeteren met het vooruitgaan van milieuvriendelijke deklaagoplossingen.