Functioneel de Deklagengoud dat van PVD het Dunne Systeem van het Filmdeposito sputtert

 Goudheeft in zijn zuiverste vorm een heldere, roodachtig-gele kleur. Het oxideert niet in de lucht bij kamertemperatuurDus het blijft heel stabiel onder normale omstandigheden en de elektrische geleidbaarheid is constant.Het is een van de meest voorkomende edelmetaal die wordt gebruikt bij afwerking.

Goud is corrosiebestendig, waardoor het een goede afwerking is voor connectorpen en elektrische schakelaars.

Goudplatering wordt gebruikt in onderdelen en componenten in een breed scala van belangrijke industrieën:

1. Medische toepassingen: lichaamsimplantaten
2. Energie: waterstofbrandstofcellen Bipolaire platen
3. halfgeleider: micro-elektronica-chips
4. Luchtvaart en defensie
5. Telecommunicatie en andere meer

ROYAL Technology levert turnkey coating-oplossingen voor fabrikanten die op zoek zijn naar een betrouwbaar team voor een langdurige samenwerking.

Robuust ontwerp, grote batches, snelle cyclus, flexibele coatingprocessen zijn de basisontwerpprocessen die het ROYAL Team heeft nagestreefd.

Ontwerpvoordelen

1. Energiebesparing: compact ontwerp en moleculaire pompen
2. Hoog doelgebruik tot 40% met een platte sputterkatode
3. De dikte van de gespotte Au-goudfolie is controleerbaar
4. One-Touch bedieningssysteem

PVD Goudsputtering

1. Als het gaat om glas, metaallegeringen enz. Substratenmateriaal, is de bindlaag essentieel om de hechting van het substraat en de Auffilm te verbeteren.Royal Technology heeft een reeks gerijpte coatingrecepten ontwikkeld op basis van verschillende toepassingen., onze klanten te ondersteunen met professioneel advies.
2. Voor de meeste toepassingen wordt een ruwheid van < 40 Å verwacht. Voor bepaalde scansonde toepassingen kan een lagere ruwheid vereist zijn, in het algemeen 1,5 ~ 4 nm.
3. Gezonde oppervlakte: een schoon oppervlak is vereist voor toepassingen waarbij de oppervlakte van het goud wordt gewijzigd.oorspronkelijke zuiverheid van de goudbron (meer dan 99.99% in het algemeen)
   
    

   Technische specificaties

   Model: RTSP800

   TECHNOLOGIE: DC-sputtering + ionenbron (optioneel)

   Materiaal: roestvrij staal

   Vervaardiging van elektrische apparatuur

   TYPE KAMER: cilindrisch, verticaal, met één deur

   Rotary RACK SYSTEM: Planetair/centrale aandrijving

   GOLD, ALUMINIUM, ZILVER, KOPER, CHROME, ROSTLOS STEEL, NIKKEL, TITAN

   Afzettingsoorzaak: platte sputterkatodes,

   Conventioneel geschikte boogkatodes (afhankelijk van de vereisten van het coatingproces)

   Reactieve gasbeheersing: MFC, 2/4 manieren

   CONTROL PLC ((Programmable Logic Controller) + IPC

   Pumpsysteem:
   SV300B 1 set (Leybold) 300 m3/uur

   Roots Pump 1 set, 490 m3/u

   Behoudspomp 1 set, 60m3/uur

   Turbo-moleculaire pomp: 1 set, 3500L/S

   Vervaardiging van elektrische apparaten

   DC-sputtering vermogen: 12 kW

   Lineaire ionenbron: 5 kW

   Veiligheidssysteem:Veel veiligheidsinterlocks ter bescherming van bedieners en apparatuur

   COOLING Recycling: koelwater

   Verwarming: verwarmingstoestellen, 9 kW

   Elektrische stroom:
   480V/3 fasen/60HZ (VS-conform)

   460V/3 fasen/50HZ (Azië-conform)

   380V/3 fasen/50HZ (EU-CE-conform)

   Voetafdruk: L3200*W2600*H2000mm

   Totaal gewicht: 4,0 ton

   CYCLE-TID: 30 tot 40 minuten (afhankelijk van het substraatmateriaal, de substraatgeometrie en de omgevingsomstandigheden)

   Vermogen maximaal: 50 kW

   Gemiddelde energieverbruik (ongeveer): 20 kW

   

Insite

Neem contact met ons op voor meer informatie, wij staan altijd open om te communiceren en de geavanceerde technieken met u te delen.