Medio - Sputterende de Deklaagmachine van het Frequentiemagnetron, MF Sputterende Deklaaginstallatie, Sputterend Vacuümdepositosysteem
1 set
MOQ
negotiable
Prijs
Mid - Frequency Magnetron Sputtering Coating Machine, MF Sputtering Coating Plant, Sputtering Vacuum Deposition System
Kenmerken Galerij Productomschrijving Verzoek om een Citaat
Kenmerken
Basis informatie
Plaats van herkomst: Made in China
Merknaam: ROYAL
Certificering: CE
Modelnummer: Rtsp1212-MF
Hoog licht:

magnetron sputtering equipment

,

vacuum deposition equipment

Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden
Verpakking Details: De uitvoernorm, dat in nieuwe gevallen/kartons moet worden ingepakt, geschikt voor oceaan/lucht over
Levertijd: 12 weken
Betalingscondities: BEVESTIGINGSBRIEF, D/A, D/P, T/T
Levering vermogen: 6 reeksen per maand
Specificaties
Depositobronnen: Gestuurde Kathodische Boog + MF Sputterende Kathode
Techniek: PVD, de Evenwichtige/Uit zijn evenwicht gebrachte Sputterende Kathode van Magentron
Toepassingen: Al2O3, ceramische de kringsraad van AlN, Al2O3 platen op leiden, halfgeleider
Filmeigenschappen: slijtageweerstand, sterke adhesie, decoratieve deklaagkleuren
Fabrieksplaats: De stad van Shanghai, China
Fabrieksplaats: De stad van Shanghai, China
De Dienst wereldwijd: Polen - Europa; Van West- Iran Azië & Midden-Oosten, Turkije, India, Mexico Zuid-Amerika
De Dienst wereldwijd: Polen - Europa; Van West- Iran Azië & Midden-Oosten, Turkije, India, Mexico Zuid-Amerika
De Dienst wereldwijd: Polen - Europa; Van West- Iran Azië & Midden-Oosten, Turkije, India, Mexico Zuid-Amerika
De opleidende Dienst: Machineverrichting, onderhoud, die procesrecepten, programma met een laag bedekken
De opleidende Dienst: Machineverrichting, onderhoud, die procesrecepten, programma met een laag bedekken
Garantie: Beperkte garantie 1 jaar voor het vrije, gehele leven voor machine
OEM & ODM: beschikbaar, steunen wij op maat gemaakte ontwerp en vervaardiging
OEM & ODM: beschikbaar, steunen wij op maat gemaakte ontwerp en vervaardiging
Productomschrijving

 

 

Sputterende de Deklaagmachine van het medio-frequentiemagnetron/MF Sputterend Systeem  

 

 

 

Het magnetron die Vacuümdeklaag sputteren is een type van Ionen het Platerenoppervlaktebehandeling van PVD menthod. Het kan voor de productie worden gebruikt van het leiden van of niet het leiden van films, op vele typesmaterialen: metalen, glas, ceramisch, plastic, metaallegering. Het het sputteren depositoconcept: het deklaagmateriaal (doel, ook genoemd kathode) en de het werkstukken (substraten, ook genoemd anode) worden geplaatst in de luchtledige kamer en de druk wordt verminderd. Het sputteren wordt in werking gesteld door het doel onder een differintial voltage te plaatsen en Argongas te introduceren dat argonionen (gloedlossing) vormt. De argonionen versnellen naar het procesdoel en verplaatsen doelatomen. Deze sputterende atomen zijn dan gecondenseerd op de substraat en vorm zeer dunne en hoge uniformiteitslaag. Diverse kleuren kunnen worden bereikt door reactieve gassen als te introduceren, stikstof, oxgen, of het acetyleen in sputtert gass tijdens deklaagproces.

 

Magnetron Sputterende Modellen: Gelijkstroom-het Sputteren, MF het Sputteren, rf-het Sputteren

 

Wat sputtert MF?

 

Het vergeleken met het sputteren van gelijkstroom en rf-, medio-Frequentie is sputteren een hoofd dunne film het sputteren techniek voor massaproduktie van deklaag, in het bijzonder voor het filmdeposito van diëlektrische en niet geleidende filmdeklagen op oppervlakten zoals optische deklagen, zonnepanelen, veelvoudige lagen, samengesteld materiaalfilm enz. geworden.

Het vervangt rf-sputteren wegens in werking gesteld het met kHz eerder dan Mhz voor een veel sneller depositotarief en kan ook de Doelvergiftiging tijdens samenstelling vermijden filmt dun deposito zoals gelijkstroom.

 

MF sputterende doelstellingen er bestonden altijd met twee-reeksen. Twee die kathoden worden met een AC stroom gebruikt afwisselend tussen hen wordt geschakeld welke de doeloppervlakte met elke omkering schoonmaakt om de lastenopeenhoping op diëlektrica te verminderen die tot het een boog vormen leidt die druppeltjes kan spuiten in het plasma en de eenvormige dunne filmgroei verhinderen- welke is wat wij Doelvergiftiging noemden.

 

MF het Sputteren Systeemprestaties

1. Uiteindelijke Vacuümdruk: dan beter 5.0×10-6 Torr.

2. Werkende Vacuümdruk: 1.0×10-4 torr.

3. Pumpingdowntijd: van 1 ATM aan 1.0×10-4 Torr≤ 3 minuten (kamertemperatuur, droge, schone en lege kamer)

4. Metalizingsmateriaal die (+ Boogverdamping sputteren): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, Tin, Tic, TiAlN, CrN, CrC, enz.

5. Werkend Model: Volledig automatisch /Semi-Auto/ manueel

 

MF Sputterende Systeemstructuur

De vacuümdeklaagmachine bevat zeer belangrijk voltooid hieronder vermeld systeem:

1. Luchtledige kamer

2. Rouhgings Vacuüm Pompend Systeem (Steunend Pomppakket)

3. Hoog Vacuüm Pompend Systeem (magnetisch Opschortings Moleculaire Pomp)

4. Elektrocontrole en Verrichtingssysteem

5. Het Systeem van de Auxiliarryfaciliteit (Subsysteem)

6. Depositosysteem: MF sputterende kathode, MF voeding, Bias Voeding Ionenbron voor facultatief

 

MF het Sputteren de Specificaties van Systeem rtsp1212-MF

 

MODEL Rtsp1212-MF
TECHNOLOGIE MF Magnetron die + Ionenplateren sputteren
MATERIAAL Roestvrij staal (S304)
KAMERgrootte Φ1250*H1250mm
KAMERtype Cilinder, verticaal, 1 deur
SPUTTEREND SYSTEEM Uitsluitend ontwerp voor dun zwart filmdeposito
DEPOSITOmateriaal Aluminium, Zilver, Koper, Chrome, Roestvrij staal,
Nikkel
DEPOSITObron 2 reeksen MF het Cilindrische Sputteren richt + 8 Gestuurde Kathodische Boogbronnen
GAS MFC- 4 manieren, AR, N2, O2, C2H2
CONTROLE PLC (Programmeerbaar Logicacontrolemechanisme) +
POMPsysteem SV300B - 1 reeks (Leybold)
WAU1001 - 1 reeksen (Leybold)
D60T- 2sets (Leybold)
Turbo Moleculaire Pompen: 2* F-400/3500
VOORBEHANDELING Bias voeding: 1*36 kW
VEILIGHEIDSsysteem Talrijke veiligheidskoppelingen om exploitanten te beschermen
Het KOELEN Koud Water
MACHT ELEKTRO 480V/3 phases/60HZ (volgzame de V.S.)
460V/3 phases/50HZ (volgzaam Azië)
380V/3 phases/50HZ (volgzaam EU-Ce)
VOETAFDRUK L3000*W3000*H2000mm
TOTAAL GEWICHT 7.0 T
VOETAFDRUK (L*W*H) MM. VAN 5000*4000 *4000
CYCLUSDUUR 30~40 minuten (afhankelijk van substraatmateriaal,
substraatmeetkunde en milieuvoorwaarden)
MACHTSmax. 155 kW

GEMIDDELDE MACHT

CONSUMPTIE (ONG.)

75 kW

 Medio - Sputterende de Deklaagmachine van het Frequentiemagnetron, MF Sputterende Deklaaginstallatie, Sputterend Vacuümdepositosysteem 0

 

 

 

Wij hebben meer modellen voor uw selectie! 

Medio - Sputterende de Deklaagmachine van het Frequentiemagnetron, MF Sputterende Deklaaginstallatie, Sputterend Vacuümdepositosysteem 1

Medio - Sputterende de Deklaagmachine van het Frequentiemagnetron, MF Sputterende Deklaaginstallatie, Sputterend Vacuümdepositosysteem 2

 

 

Tevreden om ons voor meer specificaties te contacteren, is de Koninklijke Technologie geëerd om u te verstrekken totale deklaagoplossingen.

Geadviseerde Producten
Neem contact op met ons
Fax : 86-21-67740022
Resterend aantal tekens(20/3000)