Gelijkstroom Magnetron Sputterende Deklaagmachine, Onevenwichtig Vlak Sputterend Deklaagsysteem
1 set
MOQ
negotiable
Prijs
DC Magnetron Sputtering Coating Machine ,  Unbalanced Planar Sputtering Coating System
Kenmerken Galerij Productomschrijving Verzoek om een Citaat
Kenmerken
Basis informatie
Plaats van herkomst: Made in China
Merknaam: ROYAL
Certificering: CE certification
Modelnummer: RTSP1200
Hoog licht:

magnetron sputtering equipment

,

vacuum deposition equipment

Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden
Verpakking Details: De uitvoernorm, dat in nieuwe gevallen/kartons moet worden ingepakt, geschikt voor oceaan/lucht over
Levertijd: 12 weken
Betalingscondities: L/C, T/T
Levering vermogen: 6 reeksen per maand
Specificaties
Kamer: Verticale richtlijn, 2 deuren
Materiaal: Roestvrij staal 304/316
Depositobronnen: De Sputterende Kathode van gelijkstroom
Techniek: PVD, de Evenwichtige/Uit zijn evenwicht gebrachte Sputterende Kathode van Magentron
Toepassingen: decoratie van juwelen, horloge, geleidende filmdeklaag, metaalfilm, elektronika, brandstofcel, fysic
Filmeigenschappen: slijtageweerstand, sterke adhesie, decoratieve deklaagkleuren
Fabrieksplaats: De stad van Shanghai, China
De Dienst wereldwijd: Polen - Europa; Van West- Iran Azië & Midden-Oosten, Turkije, India, Mexico Zuid-Amerika
De opleidende Dienst: Machineverrichting, onderhoud, die procesrecepten, programma met een laag bedekken
Garantie: Beperkte garantie 1 jaar voor het vrije, gehele leven voor machine
OEM & ODM: beschikbaar, steunen wij op maat gemaakte ontwerp en vervaardiging
Productomschrijving

 

 

DC Magnetron Sputterende Coating Machine / DC Sputtersysteem

 

Magnetron sputteren Modellen: DC sputteren, MF sputteren, RF sputteren

 

Wat is DC-sputteren?

 

DC-sputteren wordt voornamelijk gebruikt voor het sputteren van puur metalen doelen zoals: chroom, titanium, aluminium, koper, roestvrij staal, nikkel, zilver, goud voor hooggeleidende films.

 

DC-sputteren is een Thin Film Physical Vapour Deposition (PVD)-coatingtechniek waarbij een doelmateriaal dat als coating wordt gebruikt, wordt gebombardeerd met geïoniseerde gasmoleculen, waardoor atomen worden "verstoven" in het plasma.Deze verdampte atomen worden vervolgens afgezet wanneer ze condenseren als een dunne film op het te coaten substraat.

 

DC-sputteren is het meest eenvoudige en goedkope type sputteren voor PVD-metaalafzetting en elektrisch geleidende doelcoatingmaterialen.Twee grote voordelen van DC als stroombron voor dit proces zijn dat het gemakkelijk te regelen is en een goedkope optie is als u metaalafzetting voor coating uitvoert.

DC-sputteren wordt veel gebruikt in de halfgeleiderindustrie om microchipschakelingen op moleculair niveau te creëren.Het wordt gebruikt voor gouden sputtercoatings van sieraden, horloges en andere decoratieve afwerkingen, voor niet-reflecterende coatings op glas en optische componenten, evenals voor gemetalliseerde verpakkingskunststoffen, autospiegels, autoverlichtingsreflectoren, autowielen en -naven enz.

 

DC Magnetron Sputterende Coating MachinePrestatie

1. Ultieme vacuümdruk: beter dan 5,0 × 10-6Torr.

2. Bedrijfsvacuümdruk: 1.0×10-4Torr.

3. Afpomptijd: van 1 atm tot 1.0×10-4Torr≤ 3 minuten (kamertemperatuur, droge, schone en lege kamer)

4. Metaliserend materiaal (sputteren + boogverdamping): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, enz.

5. Bedrijfsmodel: volledig automatisch / semi-automatisch / handmatig;

 

DC Magnetron Sputterende Coating Machine Structuur:

De vacuümcoatingmachine bevat het belangrijkste voltooide systeem dat hieronder wordt vermeld:

1. Vacuümkamer

2. Rouhging Vacuümpompsysteem (Backing Pump Package)

3. Hoogvacuümpompsysteem (moleculaire pomp met magnetische ophanging)

4. Elektrisch controle- en besturingssysteem

5. Hulpvoorzieningssysteem (subsysteem)

6. Afzettingssysteem: DC-sputterkathode, DC-voeding, Bias Power Supply Ion-bron voor optioneel;

 

DC Magnetron Sputterende Coating MachineSpecificaties:

RTSP1250-DC
MODEL RTSP1250-DC
TECHNOLOGIE Magnetron sputteren (DC) + ionenplateren
MATERIAAL Roestvrij staal (S304)
KAMERGROOTTE Φ1250*H1250mm
KAMERTYPE: Cilinder, verticaal, 1-deurs
SPUTTERSYSTEEM Exclusief ontworpen voor dunne zwarte filmafzetting
DEPOSITIE MATERIAAL: Aluminium, zilver, koper, chroom, roestvrij staal, nikkel, titanium
DEPOSITIE BRON Cilindrische / vlakke sputterdoelen + 7 gestuurde kathodische boogbronnen
GAS MFC- 4 manieren, Ar, N2, O2, C2H2
CONTROLE PLC (programmeerbare logische controller) +
Touch screen
POMP SYSTEEM SV300B - 1 set (Leybold)
WAU1001 - 1 reeksen (Leybold)
D60T-2sets (Leybold)
Moleculaire turbopompen: 2* F-400/3500
VOORBEHANDELING Bias-voeding: 1*36 KW
VEILIGHEIDSSYSTEEM Talrijke veiligheidsvergrendelingen om operators te beschermen
en uitrusting
KOELING Koud water
ELEKTRISCHE STROOM 480V/3 fasen/60HZ (compatibel met de VS)
460V/3 fasen/50HZ (compatibel met Azië)
380V/3 fasen/50HZ (conform EU-CE)
VOETAFDRUK L3000*W3000*H2000mm
TOTALE GEWICHT 7.0 T
VOETAFDRUK (L*B*H) 5000*4000 *4000 MM
CYCLUSTIJD 30~40 minuten (afhankelijk van substraatmateriaal,
substraatgeometrie en omgevingsomstandigheden)
VERMOGEN MAX.. 155KW
GEMIDDELDE STROOMVERBRUIK (ONGEVEER) 75KW

 

We hebben meer modellen voor uw selectie!

Gelijkstroom Magnetron Sputterende Deklaagmachine, Onevenwichtig Vlak Sputterend Deklaagsysteem 0

 

Neem contact met ons op voor meer specificaties, Royal Technology is vereerd om u totale coatingoplossingen te bieden.

 

Geadviseerde Producten
Neem contact op met ons
Fax : 86-21-67740022
Resterend aantal tekens(20/3000)