Bericht versturen

MF Machine van de Magnetron de Sputterende Deklaag, MF die de Zwarte Installatie van de Filmdeklaag, Zwartachtige TiCN, CrC Film Vacuümcoater sputteren

1 set
MOQ
negotiable
Prijs
MF Machine van de Magnetron de Sputterende Deklaag, MF die de Zwarte Installatie van de Filmdeklaag, Zwartachtige TiCN, CrC Film Vacuümcoater sputteren
Kenmerken Galerij Productomschrijving Verzoek om een Citaat
Kenmerken
Specificaties
Depositobronnen: Gestuurde Kathodische Boog + MF Sputterende Kathode
Techniek: PVD, de Evenwichtige/Uit zijn evenwicht gebrachte Sputterende Kathode van Magentron
Toepassingen: de bevestigingsmiddelen van de staalprecisie, schroeven, camerametalen
Filmeigenschappen: slijtageweerstand, sterke adhesie, decoratieve deklaagkleuren
Fabrieksplaats: De stad van Shanghai, China
Fabrieksplaats: De stad van Shanghai, China
De Dienst wereldwijd: Polen - Europa; Van West- Iran Azië & Midden-Oosten, Turkije, India, Mexico Zuid-Amerika
De Dienst wereldwijd: Polen - Europa; Van West- Iran Azië & Midden-Oosten, Turkije, India, Mexico Zuid-Amerika
De opleidende Dienst: Machineverrichting, onderhoud, die procesrecepten, programma met een laag bedekken
Garantie: Beperkte garantie 1 jaar voor het vrije, gehele leven voor machine
OEM & ODM: beschikbaar, steunen wij op maat gemaakte ontwerp en vervaardiging
OEM & ODM: beschikbaar, steunen wij op maat gemaakte ontwerp en vervaardiging
Hoog licht:

magnetron sputtering machine

,

vacuum deposition equipment

Basis informatie
Plaats van herkomst: Made in China
Merknaam: ROYAL
Certificering: CE certification
Modelnummer: RTAS1250
Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden
Verpakking Details: De uitvoernorm, dat in nieuwe gevallen/kartons moet worden ingepakt, geschikt voor oceaan/lucht over
Levertijd: 12 weken
Betalingscondities: BEVESTIGINGSBRIEF, D/A, D/P, T/T
Levering vermogen: 6 reeksen per maand
Productomschrijving

 

MF van de metaal Grafietdecoratie Sputterend Systeem/de Grafietpvd-Installatie van de Deposito Vacuümdeklaag

 

 

 

MF van de metaal is het Grafietdecoratie Sputterende Systeem een geïntegreerde veelvoudige deposito bronmachine aan algemene grafiet, straal zwarte, blauwe kleurenenz. decoratie op metaaldelen, roestvrij staalvoorwerpen. In het bijzonder gebruikt voor hoge de luxeproducten van de eindklasse als: elektronika: smartphone, camera, laptop, golf, lepel, vorken, mes, deurhandvat, tapkranen; jewelries van vingerringen, halsband, oorringen, armbanden enz.

 

MF van de metaal heeft het Grafietdecoratie Sputterende Systeem veelvoudige depositobronnen:
Gestuurde Cirkelboogbronnen voor verdamping van stevig metaaldoel;

2 paren van MF unblanced sputterende kathoden voor het grafiet dunne deposito van de filmlaag;

Bias Voeding voor ionenbomboardment om het plasmagebied voor voorbehandeling te vormen;

Anode Lineaire Ionen Broneenheid (voor facultatief) de verwerking van PACVD en PECVD-;

Cryopump (Polycold) voor water moleculaire condensatie (voor facultatief)

 

Wat sputtert MF?

 

Het vergeleken met het sputteren van gelijkstroom en rf-, medio-Frequentie is sputteren een hoofd dunne film het sputteren techniek voor massaproduktie van deklaag, in het bijzonder voor het filmdeposito van diëlektrische en niet geleidende filmdeklagen op oppervlakten zoals optische deklagen, zonnepanelen, veelvoudige lagen, samengesteld materiaalfilm enz. geworden.

Het vervangt rf-sputteren wegens in werking gesteld het met kHz eerder dan Mhz voor een veel sneller depositotarief en kan ook de Doelvergiftiging tijdens samenstelling vermijden filmt dun deposito zoals gelijkstroom.

 

MF sputterende doelstellingen er bestonden altijd met twee-reeksen. Twee die kathoden worden met een AC stroom gebruikt afwisselend tussen hen wordt geschakeld welke de doeloppervlakte met elke omkering schoonmaakt om de lastenopeenhoping op diëlektrica te verminderen die tot het een boog vormen leidt die druppeltjes kan spuiten in het plasma en de eenvormige dunne filmgroei verhinderen- welke is wat wij Doelvergiftiging noemden.

 

MF het Sputteren Systeemprestaties

1. Uiteindelijke Vacuümdruk: dan beter 5.0×10-6 Torr.

2. Werkende Vacuümdruk: 1.0×10-4 torr.

3. Pumpingdowntijd: van 1 ATM aan 1.0×10-4 Torr≤ 3 minuten (kamertemperatuur, droge, schone en lege kamer)

4. Metalizingsmateriaal dat (+ Boogverdamping sputtert): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, Tin, Tic, TiAlN, CrN, CrC, enz.

5. Werkend Model: Volledig automatisch /Semi-Auto/ manueel

 

MF Sputterende Systeemstructuur

De vacuümdeklaagmachine bevat zeer belangrijk voltooid hieronder vermeld systeem:

1. Luchtledige kamer

2. Rouhgings Vacuüm Pompend Systeem (Steunend Pomppakket)

3. Hoog Vacuüm Pompend Systeem (magnetisch Opschortings Moleculaire Pomp)

4. Elektrocontrole en Verrichtingssysteem

5. Het Systeem van de Auxiliarryfaciliteit (Subsysteem)

6. Depositosysteem: MF sputterende kathode, MF voeding, Bias Voeding Ionenbron voor facultatief

 

De MF van de Metaal Grafietdecoratie het Sputteren Systeemgrootte:

Kamer Binnengrootte: Dia 1200 mm ~ 1600mm
Kamer Binnenhoogte: 1250mm ~ 1300mm

 

De aangepaste die machinegrootte is ook beschikbaar op de spiegelende vraag van 3D producten wordt gebaseerd.

 

MF het Sputteren Systeem rtac1250-SPMF Specificaties

 

MODEL Rtac1250-SPMF
TECHNOLOGIE MF Magnetron dat + Ionenplateren sputtert
MATERIAAL Roestvrij staal (S304)
KAMERgrootte Φ1250*H1250mm
KAMERtype Cilinder, verticaal, 1 deur
SPUTTEREND SYSTEEM Uitsluitend ontwerp voor dun zwart filmdeposito
DEPOSITOmateriaal Aluminium, Zilver, Koper, Chrome, Roestvrij staal,
Nikkel
DEPOSITObron 2 reeksen MF het Cilindrische Sputteren richt + 8 Gestuurde Kathodische Boogbronnen + Ionenbron voor facultatief
GAS MFC- 4 manieren, AR, N2, O2, C2H2
CONTROLE PLC (Programmeerbaar Logicacontrolemechanisme) +
POMPsysteem SV300B - 1 reeks (Leybold)
WAU1001 - 1 reeksen (Leybold)
D60T- 1 reeks (Leybold)
Turbo Moleculaire Pompen: 2* F-400/3500
VOORBEHANDELING Bias voeding: 1*36 kW
VEILIGHEIDSsysteem Talrijke veiligheidskoppelingen om exploitanten te beschermen
Het KOELEN Koud Water
MACHT ELEKTRO 480V/3 phases/60HZ (volgzame de V.S.)
460V/3 phases/50HZ (volgzaam Azië)
380V/3 phases/50HZ (volgzaam EU-Ce)
VOETAFDRUK L3000*W3000*H2000mm
TOTAAL GEWICHT 7.0 T
VOETAFDRUK (L*W*H) MM. VAN 5000*4000 *4000
CYCLUSDUUR 30~40 minuten (afhankelijk van substraatmateriaal,
substraatmeetkunde en milieuvoorwaarden)
MACHTSmax. 155 kW

GEMIDDELDE MACHT

CONSUMPTIE (ONG.)

75 kW

 MF Machine van de Magnetron de Sputterende Deklaag, MF die de Zwarte Installatie van de Filmdeklaag, Zwartachtige TiCN, CrC Film Vacuümcoater sputteren 0

 

 

 

 

Tevreden om ons voor meer specificaties te contacteren, is de Koninklijke Technologie geëerd om u te verstrekken totale deklaagoplossingen.

 

 

Geadviseerde Producten
Neem contact op met ons
Fax : 86-21-67740022
Resterend aantal tekens(20/3000)