De grafietmf Machine van de Magnetron Sputterende Deklaag, het Straal Zwarte Materiaal van het Decoratiepvd Plateren

De grafiet de Vacuümdeklaagmachine van PVD/de Straal Zwarte Decoratiepvd Kleur eindigen

De grafietstructuren van de de Vacuümdeklaagmachine van PVD:

Depositobronnen
Gestuurde Cirkelboogbronnen voor verdamping van stevig metaaldoel;
2 paren van MF unblanced sputterende kathoden voor het grafiet dunne deposito van de filmlaag;
Bias Voeding voor ionenbomboardment om het plasmagebied voor voorbehandeling te vormen;
Anode Lineaire Ionen Broneenheid (voor facultatief) de verwerking van PACVD en PECVD-;
Cryopump (Polycold) voor water moleculaire condensatie (voor facultatief)
Andere Modules
1. Luchtledige kamer
2. Rouhgings Vacuüm Pompend Systeem (Steunend Pomppakket)
3. Hoog Vacuüm Pompend Systeem (magnetisch Opschortings Moleculaire Pomp)
4. Elektrocontrole en Verrichtingssysteem
5. Het Systeem van de Auxiliarryfaciliteit (Subsysteem)
6. Depositosysteem: MF sputterende kathode, MF voeding, Bias Voeding Ionenbron voor facultatief

De grafietprestaties van de de Vacuümdeklaagmachine van PVD
1. Uiteindelijke Vacuümdruk: dan beter 5.0×10-6 Torr.
2. Werkende Vacuümdruk: 1.0×10-4 torr.
3. Pumpingdowntijd: van 1 ATM aan 1.0×10-4 Torr≤ 3 minuten (kamertemperatuur, droge, schone en lege kamer)
4. Metalizingsmateriaal die (+ Boogverdamping sputteren): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, Tin, Tic, TiAlN, CrN, CrC, enz.
5. Werkend Model: Volledig automatisch /Semi-Auto/ manueel

Wat sputtert MF?

Het vergeleken met het sputteren van gelijkstroom en rf-, medio-Frequentie is sputteren een hoofd dunne film het sputteren techniek voor massaproduktie van deklaag, in het bijzonder voor het filmdeposito van diëlektrische en niet geleidende filmdeklagen op oppervlakten zoals optische deklagen, zonnepanelen, veelvoudige lagen, samengesteld materiaalfilm enz. geworden.
Het vervangt rf-sputteren wegens in werking gesteld het met kHz eerder dan Mhz voor een veel sneller depositotarief en kan ook de Doelvergiftiging tijdens samenstelling vermijden filmt dun deposito zoals gelijkstroom.

MF sputterende doelstellingen er bestonden altijd met twee-reeksen. Twee kathoden worden met een AC stroom gebruikt die afwisselend tussen hen wordt geschakeld welke de doeloppervlakte met elke omkering schoonmaakt om de lastenopeenhoping op diëlektrica te verminderen die tot het een boog vormen leidt die druppeltjes kan spuiten in het plasma en de eenvormige dunne filmgroei verhinderen- welke is wat wij Doelvergiftiging noemden.

De MF van de Metaal Grafietdecoratie het Sputteren Systeemgrootte:
Kamer Binnengrootte: Dia 1200 mm ~ 1600mm
Kamer Binnenhoogte: 1250mm ~ 1300mm

De aangepaste machinegrootte is ook beschikbaar die op de spiegelende vraag van 3D producten wordt gebaseerd.

MF het Sputteren Systeem rtac1250-SPMF Specificaties

 
 
De grafiet de Vacuümdeklaagmachine van PVD is een geïntegreerde veelvoudige deposito bronmachine aan algemene grafiet, straal zwarte, blauwe kleurenenz. decoratie op metaaldelen, roestvrij staalvoorwerpen. In het bijzonder gebruikt voor hoge de luxeproducten van de eindklasse als: elektronika: smartphone, camera, laptop, golf, lepel, vorken, mes, deurhandvat, tapkranen; jewelries van vingerringen, halsband, oorringen, armbanden, polshorloges enz.
 


 

 
Tevreden om ons voor meer specificaties te contacteren, is de Koninklijke Technologie geëerd om u te verstrekken totale deklaagoplossingen.