Merknaam: | ROYAL |
Modelnummer: | Rtsp1215-MF |
MOQ: | 1 set |
Prijs: | onderhandelbaar |
Betalingsvoorwaarden: | BEVESTIGINGSBRIEF, D/A, D/P, T/T |
Toeleveringsvermogen: | 15 reeksen per maand |
Van het de Raadstin PVD van de koperkring de Deklaagmachine/PVD-Tindecoratie die op Messingsraad plateren
Het PVD-machinemodel: Rtsp1215-MF wordt ontworpen en ontwikkeld om Tin gouden deklaag op de raad van de Koperkring te deponeren. De tin dunne die film in hoog vacuümmilieu wordt geproduceerd, dat hoogst de uniformiteit en de zuiverheid verbeterde.
Van het de Raadstin PVD van de koperkring van de de Deklaagmachine het ontwerpeigenschappen:
1. 8-kanten verwerkt de kamer met gelijke grootte die flenzen opzetten, die Ionenbron en Sputterende die kathoden of Boogkathoden flexiblely assembleren en kunnen ruilen op de deklaag wordt gebaseerd de vraag.
2. Compact ontwerp wat slechts 20sqm bezetten;
3. De ionenbron voor plasma het schoonmaken voorbehandeling en Ionenstraal stond deposito bij om de filmadhesie te verbeteren.
4. Het hoge pompende snelheidspakket en de stabiele configuratie, de magnetisch opschortings moleculaire pompen kunnen in om het even welke richting worden opgezet.
Van het de Raadstin PVD van de koperkring de Specificaties van de de Deklaagmachine
Prestaties
1. Uiteindelijke Vacuümdruk: dan beter 5.0×10-6 Torr.
2. Werkende Vacuümdruk: 1.0×10-4 torr.
3. Pumpingdowntijd: van 1 ATM aan 1.0×10-4 Torr≤ 3 minuten (kamertemperatuur, droge, schone en lege kamer)
4. Metalizingsmateriaal die (+ Boogverdamping sputteren): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr enz.
5. Werkend Model: Volledig automatisch /Semi-Auto/ manueel
Structuur
De vacuümdeklaagmachine bevat zeer belangrijk voltooid hieronder vermeld systeem:
1. Luchtledige kamer
2. Rouhgings Vacuüm Pompend Systeem (Steunend Pomppakket)
3. Hoog Vacuüm Pompend Systeem (magnetisch Opschortings Moleculaire Pomp)
4. Elektrocontrole en Verrichtingssysteem
5. Het Systeem van de Auxiliarryfaciliteit (Subsysteem)
6. Depositosysteem
Rtsp1215-MF Technische Gegevens | |||||||
MODEL | Rtsp1215-MF | ||||||
TECHNOLOGIE | Magnetron het Sputteren (MF) | ||||||
MATERIAAL | Roestvrij staal (S304) | ||||||
KAMERgrootte | Φ1200*H1500mm | ||||||
KAMERtype | 8-kanten, verticaal, 1 deur | ||||||
SPUTTEREND SYSTEEM | 4 reeksen Vlak Sputterende Kathoden | ||||||
DEPOSITOmateriaal | Aluminium, Zilver, Koper, Chrome, Roestvrij staal, Nikkel, Titanium, Tin | ||||||
DEPOSITObron | 4 vlak Sputterende Kathoden + Ionenbron voor Plasma het schoonmaken | ||||||
GAS | MFC- 2 manieren, AR, N2 | ||||||
CONTROLE | PLC (Programmeerbaar Logicacontrolemechanisme) + Touch screen |
||||||
POMPsysteem | SV300B - 1 reeks (Leybold) | ||||||
WAU1001 - 1 reeksen (Leybold) | |||||||
D60T- 1 reeks (Leybold) | |||||||
MGK3304 - 2 reeksen (Osaka) | |||||||
VOORBEHANDELING | Bias voeding: 1*36 kW | ||||||
VEILIGHEIDSsysteem | Talrijke veiligheidskoppelingen om exploitanten te beschermen en materiaal |
||||||
Het KOELEN | Koud Water | ||||||
MACHT ELEKTRO | 480V/3 phases/60HZ (volgzame de V.S.) | ||||||
460V/3 phases/50HZ (volgzaam Azië) | |||||||
380V/3 phases/50HZ (volgzaam EU-Ce) | |||||||
VOETAFDRUK | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
TOTAAL GEWICHT | 7.0 T | ||||||
VOETAFDRUK | (L*W*H) MM. VAN 5000*4000 *4000 | ||||||
CYCLUSDUUR | 30~40 minuten (afhankelijk van substraatmateriaal, substraatmeetkunde en milieuvoorwaarden) |
||||||
MACHTSmax. | 110KW | ||||||
GEMIDDELDE MACHTSconsumptie (ONG.) | 50 kW |
Van het de Raadstin PVD van de koperkring de Deklaagsteekproef
Tevreden om ons voor meer specificaties te contacteren, is de Koninklijke Technologie geëerd om u te verstrekken totale deklaagoplossingen.