|
| Merknaam: | ROYAL |
| Modelnummer: | RTSP1000-IPG |
| MOQ: | 12 sets |
| Prijs: | onderhandelbaar |
| Betalingsvoorwaarden: | BEVESTIGINGSBRIEF, D/A, D/P, T/T |
| Toeleveringsvermogen: | 6 reeksen per maand |
HorlogekastMF Sputtering System / Grafiet PVD Deposition Vacuum Coating Plant
MF-sputtering systeem voor horlogekastis een geïntegreerde machine voor meerdere afzetting van bronnen voor algemene grafiet, jet zwart, blauwe kleur, enz. decoratie op metalen onderdelen, objecten van roestvrij staal.Vooral gebruikt voor luxeproducten van hoge kwaliteit zoals:: elektronica: smartphone, camera, laptop, golf, lepel, vork, mes, deurgreep, kraan; sieraden van vingers, halsketting, oorringen, armbanden, enz.
Het MF-sputtering systeem heeft meerdere afzettingsources:
g. "technologie" voor de "ontwikkeling" of "ontwikkeling" van "technologieën" voor de "ontwikkeling" of "ontwikkeling" van "technologieën" voor de "ontwikkeling" of "ontwikkeling" van "technologieën" voor de "ontwikkeling" of "ontwikkeling" van "technologieën";
2 paren MF-sputterkatodes voor de afzetting van een dunne grafietlaag;
Bias Power Supply voor ionbombardement om het plasmagebied voor de voorbehandeling te vormen;
a. "technologie" voor de "ontwikkeling" of "ontwikkeling" van "technologie" voor de "ontwikkeling" van "technologie" voor "ontwikkeling", "ontwikkeling", "ontwikkeling", "ontwikkeling", "ontwikkeling", "ontwikkeling", "ontwikkeling" of "ontwikkeling";
Cryopomp (Polycold) voor watermoleculaire condensatie (facultatief)
Wat is MF-sputtering?
In vergelijking met DC- en RF-sputtering is Mid-Frequency-sputtering de belangrijkste dunne filmsputteringstechniek geworden voor de massaproductie van coatings,met een gewicht van niet meer dan 10 kg,, zonnepanelen, meerdere lagen, film van composietmateriaal, enz.
Het vervangt RF-sputtering doordat het werkt met kHz in plaats van MHz voor een veel snellere afzettingshype en kan ook de Target-vergiftiging voorkomen tijdens samengestelde dunne film afzetting zoals DC.
MF-sputteringdoelen bestonden altijd met twee sets. Two cathodes are used with an AC current switched back and forth between them which cleans the target surface with each reversal to reduce the charge build up on dielectrics that leads to arcing which can spew droplets into the plasma and prevent uniform thin film growth--- which is what we called Target Poisoning.
Prestaties van het MF-sputtersysteem
1. Ultieme vacuümdruk: beter dan 5,0 × 10-6Torr.
2Werk vacuümdruk: 1,0 × 10-4Torr.
3. Pomptijd: van 1 atm tot 1,0 × 10-4Torr≤ 3 minuten (kamertemperatuur, droge, schone en lege kamer)
4Metaliseringsmateriaal (sputtering + boogverdamping): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, enz.
5Operatiemodel: volledig automatisch/semi-automatisch/handmatig
Structuur van het MF-sputtersysteem
De vacuümcoatingsmachine bevat het volgende compleet systeem:
1Vacuümkamer.
2. Ruwe vacuümpompinstallatie (backpumppakket)
3. Hoog vacuümpompsysteem (magnetisch ophangende moleculaire pomp)
4Elektrisch besturingssysteem
5. Hulpfaciliteitssysteem (subsysteem)
6Depositiesysteem: MF-sputterkatode, MF-stroomvoorziening, Bias-stroomvoorziening
De metalen grafiet decoratie MF Sputtering Systemen:
Inwendige grootte van de kamer: 1200 mm ~ 1600 mm
Innerlijk kamertal: 1250 mm ~ 1300 mm
Op maat gemaakte machinale afmetingen zijn ook beschikbaar op basis van de specifieke vraag naar 3D-producten.
MF-sputtering systeem RTAC1250-SPMF specificaties
| Modellen | RTAC1250-SPMF | ||||||
| Technologie | MF Magnetron Sputtering + Ion Plating | ||||||
| Materiaal | Roestvrij staal (S304) | ||||||
| Grootte van de kamer | Φ1250*H1250mm | ||||||
| KAMERTYPE | Cylinder, verticaal, 1 deur | ||||||
| SPUTTERSYSTEM | Exclusief ontworpen voor dunne zwarte folie | ||||||
| Inhoud van de aanvraag | Aluminium, zilver, koper, chroom, roestvrij staal, Nikkel |
||||||
| De in de bijlage vermelde gegevens zijn van toepassing op de in de bijlage opgenomen gegevens. | 2 sets MF cilindrische sputterdoelen + 8 geleide kathodische boogbronnen + ionenbron | ||||||
| GAS | MFC- 4 manieren, Ar, N2, O2, C2H2 | ||||||
| Controle | PLC ((Programmable Logic Controller) + | ||||||
| POMPSYSTEM | SV300B - 1 set (Leybold) | ||||||
| WAU1001 - 1 set (Leybold) | |||||||
| D60T- 1 set (Leybold) | |||||||
| Turbomoleculaire pompen: 2* F-400/3500 | |||||||
| Voorbehandeling | Bias stroomvoorziening: 1*36 kW | ||||||
| Veiligheidssysteem | Talrijke veiligheidssluitingen ter bescherming van de gebruikers | ||||||
| Verwarming | Koud water | ||||||
| Elektrische energie | 480V/3 fasen/60HZ (VS-conform) | ||||||
| 460V/3 fasen/50HZ (Azië-conform) | |||||||
| 380V/3 fasen/50HZ (EU-CE-conform) | |||||||
| Voetafdruk | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
| Totaal gewicht | 7.0 T | ||||||
| Voetafdruk | (L*W*H) 5000*4000*4000 MM | ||||||
| CYCLUSTIME | 30 tot 40 minuten (afhankelijk van het substraatmateriaal, de geometrie van het substraat en de omgevingsomstandigheden) |
||||||
| Power Max. | 155 kW | ||||||
|
Gemiddeld vermogen |
75 kW |
Neem contact met ons op voor meer specificaties, Royal Technology is vereerd om u complete coating oplossingen te bieden.
