Merknaam: | ROYAL |
Modelnummer: | Rtac1250-SPMF |
MOQ: | 1 set |
Prijs: | onderhandelbaar |
Betalingsvoorwaarden: | L / C, T / T |
Toeleveringsvermogen: | 10 sets per maand |
Machine van de armbandpvd de Gouden Deklaag, Stainles-het Gouden Platerenmateriaal van de Staalarmband, het Gouden Plateren van PVD
Wat is PVD?
PVD (is de korte naam van Fysiek Dampdeposito) is een vacuümdeklaagproces om een conforme op metaal-gebaseerde dunne film te produceren die uniform op elektrisch geleidende oppervlakten kan worden gedeponeerd. Gebruikend de Boog ionenverdamping en magnetronmf het sputteren methode, één enkele deklaaglaag ruime dekking verstrekt zonder het oppervlakteprofiel te wijzigen. Deze techniek wordt gebruikt in vele elektronische industrieën met inbegrip van optische media, optica en halfgeleidercomponenten.
Dunne de Filmeigenschappen van PVD
Machine van het de Filmplateren van precisiebevestigingsmiddelen PVD wordt de Dunne toegepast met bevestigingsmiddelen en de montage zoals schroeven, bouten, verbrijzeling, montage, kappen die in schoonheidsmiddelen, elektronische producten, mechanische machines worden gebruikt, de automobielindustrieën wijd gebruikt de PVD-technologie om verscheidenheid van Panton-kleuren, waaier van goud, zwarte, blauw, grijs, zilver, regenboog, brons, champage enz. te krijgen.
Van het de Filmplateren van precisiebevestigingsmiddelen PVD de Dunne Bronnen van het de Machinedeposito
Gestuurde Cirkelboogbronnen voor verdamping van stevig metaaldoel;
2 paren van MF unblanced sputterende kathoden voor het grafiet dunne deposito van de filmlaag;
Bias Voeding voor ionenbomboardment om het plasmagebied voor voorbehandeling te vormen;
Anode Lineaire Ionen Broneenheid (voor facultatief) de verwerking van PACVD en PECVD-;
Cryopump (Polycold) voor water moleculaire condensatie (voor facultatief)
Van het de Filmplateren van precisiebevestigingsmiddelen PVD Dunne de Machinestructuren
1. Luchtledige kamer
2. Rouhgings Vacuüm Pompend Systeem (Steunend Pomppakket)
3. Hoog Vacuüm Pompend Systeem (magnetisch Opschortings Moleculaire Pomp)
4. Elektrocontrole en Verrichtingssysteem
5. Het Systeem van de Auxiliarryfaciliteit (Subsysteem)
6. Depositosysteem: MF sputterende kathode, MF voeding, Bias Voeding Ionenbron voor facultatief
Van het de Filmplateren van precisiebevestigingsmiddelen PVD de Dunne Prestaties van Machin
1. Uiteindelijke Vacuümdruk: dan beter 5.0×10-6 Torr.
2. Werkende Vacuümdruk: 1.0×10-4 torr.
3. Pumpingdowntijd: van 1 ATM aan 1.0×10-4 Torr≤ 3 minuten (kamertemperatuur, droge, schone en lege kamer)
4. Metalizingsmateriaal dat (+ Boogverdamping sputtert): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, Tin, Tic, TiAlN, CrN, CrC, enz.
5. Werkend Model: Volledig automatisch /Semi-Auto/ manueel
Van het de Filmplateren van precisiebevestigingsmiddelen PVD de Dunne Specificaties van Machin
MODEL | Rtac1250-SPMF | ||||||
TECHNOLOGIE | MF Magnetron dat + Ionenplateren sputtert | ||||||
MATERIAAL | Roestvrij staal (S304) | ||||||
KAMERgrootte | Φ1250 * H1250mm | ||||||
KAMERtype | Cilinder, verticaal, 1 deur | ||||||
SPUTTEREND SYSTEEM | Uitsluitend ontwerp voor dun zwart filmdeposito | ||||||
DEPOSITOmateriaal | Aluminium, Zilver, Koper, Chrome, Roestvrij staal, Nikkel |
||||||
DEPOSITObron | 2 reeksen MF het Cilindrische Sputteren richt + 8 Gestuurde Kathodische Boogbronnen + Ionenbron voor facultatief | ||||||
GAS | MFC- 4 manieren, AR, N2, O2, C2H2 | ||||||
CONTROLE | PLC (Programmeerbaar Logicacontrolemechanisme) + | ||||||
POMPsysteem | SV300B - 1 reeks (Leybold) | ||||||
WAU1001 - 1 reeksen (Leybold) | |||||||
D60T- 1 reeks (Leybold) | |||||||
Turbo Moleculaire Pompen: 2* F-400/3500 | |||||||
VOORBEHANDELING | Bias voeding: 1*36 kW | ||||||
VEILIGHEIDSsysteem | Talrijke veiligheidskoppelingen om exploitanten te beschermen | ||||||
Het KOELEN | Koud Water | ||||||
MACHT ELEKTRO | 480V/3 phases/60HZ (volgzame de V.S.) | ||||||
460V/3 phases/50HZ (volgzaam Azië) | |||||||
380V/3 phases/50HZ (volgzaam EU-Ce) | |||||||
VOETAFDRUK | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
TOTAAL GEWICHT | 7.0 T | ||||||
VOETAFDRUK | (L*W*H) MM. VAN 5000*4000 *4000 | ||||||
CYCLUSDUUR | 30~40 minuten (afhankelijk van substraatmateriaal, substraatmeetkunde en milieuvoorwaarden) |
||||||
MACHTSmax. | 155 kW | ||||||
GEMIDDELDE MACHT CONSUMPTIE (ONG.) |
75 kW |
De aangepaste machinegrootte is ook beschikbaar die op gespecificeerde geëiste producten wordt gebaseerd.
Tevreden om ons voor meer specificaties te contacteren, is de Koninklijke Technologie geëerd om u te verstrekken totale deklaagoplossingen.