Bevestigingsmiddelen en montagepvd eindigen de Dunne Machine van het Filmplateren/Nano Dunne Filmpvd Decoratie
Hoe PVD-werkt de Deklaag?
Het stevige metaal wordt gelaten verdampen of in een hoog vacuümmilieu geïoniseerd en op elektrisch geleidende materialen als een zuiver metaal of van de metaallegering films gedeponeerd. Wanneer een reactief gas, zoals stikstof, zuurstof of een op koolwaterstof-gebaseerd gas aan de metaaldamp wordt geïntroduceerd, leidt het tot nitride, oxyde, of carbidedeklagen aangezien de metaaldampstroom, chemisch met de gassen reageert. PVD-de deklaag moet in een gespecialiseerde reactiekamer worden gedaan zodat het gelaten verdampen materiaal niet met enige verontreinigende stoffen reageert die anders in de ruimte aanwezig zouden zijn.
Tijdens het proces van PVD-deklaag, worden de procesparameters dicht gecontroleerd en beheerst zodat de resulterende filmhardheid, de adhesie, de chemische weerstand, de filmstructuur, en andere eigenschappen voor in werking gesteld elk herhaalbaar zijn. Diverse PVD-deklaag wordt gebruikt om slijtageweerstand te verhogen, wrijving te verminderen, verschijning te verbeteren, en andere prestatiesverhogingen te bereiken.
om hoge zuiverheidsmaterialen zoals titanium, chromium, of zirconium, zilver, goud, aluminium, koper, roestvrij staal te deponeren, gebruikt het fysische procédé van PVD-deklaag één van verscheidene verschillende PVD-deklaagmethodes, die omvatten:
Boogverdamping
Thermische verdamping
DC/MF het sputteren (het bombardement van ionen)
Ionenstraaldeposito
Ionenplateren
Het verbeterde sputteren
Elk van deze methodes behoort in de overwelvende categorie van „fysiek dampdeposito“.
Dunne de Filmeigenschappen van PVD
Machine van het de Filmplateren van precisiebevestigingsmiddelen PVD die wordt de Dunne toegepast met bevestigingsmiddelen en de montage zoals schroeven, bouten, verbrijzeling, montage, kappen in schoonheidsmiddelen, elektronische producten, mechanische machines worden gebruikt, de automobielindustrieën wijd gebruikt de PVD-technologie om verscheidenheid van Panton-kleuren, waaier van goud, zwarte, blauw, grijs, zilver, regenboog, brons, champage enz. te krijgen.
Van het de Filmplateren van precisiebevestigingsmiddelen PVD de Dunne Bronnen van het de Machinedeposito
Gestuurde Cirkelboogbronnen voor verdamping van stevig metaaldoel;
2 paren van MF unblanced sputterende kathoden voor het grafiet dunne deposito van de filmlaag;
Bias Voeding voor ionenbomboardment om het plasmagebied voor voorbehandeling te vormen;
Anode Lineaire Ionen Broneenheid (voor facultatief) de verwerking van PACVD en PECVD-;
Cryopump (Polycold) voor water moleculaire condensatie (voor facultatief)
Van het de Filmplateren van precisiebevestigingsmiddelen PVD Dunne de Machinestructuren
1. Luchtledige kamer
2. Rouhgings Vacuüm Pompend Systeem (Steunend Pomppakket)
3. Hoog Vacuüm Pompend Systeem (magnetisch Opschortings Moleculaire Pomp)
4. Elektrocontrole en Verrichtingssysteem
5. Het Systeem van de Auxiliarryfaciliteit (Subsysteem)
6. Depositosysteem: MF sputterende kathode, MF voeding, Bias Voeding Ionenbron voor facultatief
Van het de Filmplateren van precisiebevestigingsmiddelen PVD de Dunne Prestaties van Machin
1. Uiteindelijke Vacuümdruk: dan beter 5.0×10-6 Torr.
2. Werkende Vacuümdruk: 1.0×10-4 torr.
3. Pumpingdowntijd: van 1 ATM aan 1.0×10-4 Torr≤ 3 minuten (kamertemperatuur, droge, schone en lege kamer)
4. Metalizingsmateriaal die (+ Boogverdamping sputteren): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, Tin, Tic, TiAlN, CrN, CrC, enz.
5. Werkend Model: Volledig automatisch /Semi-Auto/ manueel
Van het de Filmplateren van precisiebevestigingsmiddelen PVD de Dunne Specificaties van Machin
MODEL | Rtac1250-SPMF | ||||||
TECHNOLOGIE | MF Magnetron die + Ionenplateren sputteren | ||||||
MATERIAAL | Roestvrij staal (S304) | ||||||
KAMERgrootte | Φ1250 * H1250mm | ||||||
KAMERtype | Cilinder, verticaal, 1 deur | ||||||
SPUTTEREND SYSTEEM | Uitsluitend ontwerp voor dun zwart filmdeposito | ||||||
DEPOSITOmateriaal | Aluminium, Zilver, Koper, Chrome, Roestvrij staal, Nikkel |
||||||
DEPOSITObron | 2 reeksen MF het Cilindrische Sputteren richt + 8 Gestuurde Kathodische Boogbronnen + Ionenbron voor facultatief | ||||||
GAS | MFC- 4 manieren, AR, N2, O2, C2H2 | ||||||
CONTROLE | PLC (Programmeerbaar Logicacontrolemechanisme) + | ||||||
POMPsysteem | SV300B - 1 reeks (Leybold) | ||||||
WAU1001 - 1 reeksen (Leybold) | |||||||
D60T- 1 reeks (Leybold) | |||||||
Turbo Moleculaire Pompen: 2* F-400/3500 | |||||||
VOORBEHANDELING | Bias voeding: 1*36 kW | ||||||
VEILIGHEIDSsysteem | Talrijke veiligheidskoppelingen om exploitanten te beschermen | ||||||
Het KOELEN | Koud Water | ||||||
MACHT ELEKTRO | 480V/3 phases/60HZ (volgzame de V.S.) | ||||||
460V/3 phases/50HZ (volgzaam Azië) | |||||||
380V/3 phases/50HZ (volgzaam EU-Ce) | |||||||
VOETAFDRUK | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
TOTAAL GEWICHT | 7.0 T | ||||||
VOETAFDRUK | (L*W*H) MM. VAN 5000*4000 *4000 | ||||||
CYCLUSDUUR | 30~40 minuten (afhankelijk van substraatmateriaal, substraatmeetkunde en milieuvoorwaarden) |
||||||
MACHTSmax. | 155 kW | ||||||
GEMIDDELDE MACHT CONSUMPTIE (ONG.) |
75 kW |
De aangepaste die machinegrootte is ook beschikbaar op gespecificeerde geëiste producten wordt gebaseerd.
Tevreden om ons voor meer specificaties te contacteren, is de Koninklijke Technologie geëerd om u te verstrekken totale deklaagoplossingen.