|
| Merknaam: | ROYAL |
| Modelnummer: | RTSP1000 |
| MOQ: | 1 set |
| Toeleveringsvermogen: | 10 sets per maand |
Het gesloten gebied bracht systeem van het magnetron het sputterende deposito uit zijn evenwicht, Uit zijn evenwicht gebracht Magnetron dat Ion Plating sputtert
De uit zijn evenwicht gebrachte en gesloten processen van het gebiedsmagnetron hebben alle voordelen van vlakmagnetronen. De extra voordelen en de nadelen zijn:
Uit zijn evenwicht gebracht en gesloten gebiedsmagnetron dat hervormde eigenschappen uitvoerbaar door magnetron het sputteren processen sputtert. Als succesvol met betere dunne tribological film, corrosieweerstand en optische eigenschappen aangezien deze technologie was, waren de verbeteringen van magnetrontechnologie net begonnen. Volgende Blog die wij ons op roterende en cilindrische magnetronprocessen hebben bewogen en resulterende dunne filmtoepassingen.
- Boven Artikel van P E T E R M R T I N
De koninklijke technologie ontwikkelde hoge opbrengst en de hoge sputterende kathoden van het doelgebruik, vooral voor zeldzame en dure metalen die sputteren: Au-het Goud, Ta-Tantalium, Ag zilveren metaal filmt deposito. Het het depositosysteem heeft van de hoge uniformiteitsfilm verscheidene industrieën zoals Elektronikadelen, medische instrumentencomponenten gediend die hoge filmuniformiteit, veelvoudig lagendeposito vereisen.
De RTSP1000-machine is een gestandaardiseerde die machine door Koninklijke technologie wordt ontwikkeld. Uitgebreid toegepast met knipsel/het vormen van hulpmiddelen, vormen, medische instrumenten, elektronikacomponenten, de automobielindustrieën.
| RTSP1000 hoofdconfiguraties en Technische Parameters | ||||||||
| MODEL | RTSP1000 | |||||||
| TECHNOLOGIE | MF magnetron die + het ionen bronplasma schoonmaken sputteren | |||||||
| KAMERmateriaal | Roestvrij staal (S304) | |||||||
| KAMERgrootte | Φ1000*800mm (h) | |||||||
| KAMERtype | D vorm | |||||||
| OMWENTELINGSrek & KALIBERsysteem | 6 satellieten Max. gewicht: 500kgs | |||||||
| VOEDINGEN |
Qty. van het Sputteren: 2*24 kW Bias Voeding: 1*20W Ion Source Power-levering 1*5KW |
|||||||
| DEPOSITOmateriaal | Ti/Cr/TiAl /Ta/Cu/Au/Carbon enz. | |||||||
| DEPOSITObron | 2 paren (4 stukken) Vlak Sputterende Kathoden + 1 lineair Ion Source Uniformiteitsgebied: ±10~15% |
|||||||
| CONTROLE | PLC (Programmeerbaar Logicacontrolemechanisme) + Touch screen (semi-auto de verrichtingsmodellen van manual+ auto+) | |||||||
| POMPsysteem | Roterende Vane Pump: SV300B - 1 reeks (Leybold) | |||||||
| Wortelspomp: WAU1001- 1 reeks (Leybold) | ||||||||
| Holdingspomp: D60C- 1 reeks (Leybold) | ||||||||
| Magnetische Opschortings Moleculaire Pomp - 1 reeks (Leybold) | ||||||||
| DE STROOMcontrolemechanisme VAN DE GASmassa | 4 die kanalen, in China worden gemaakt, Zeven Ster (Cs-reeks,) digitaal model | |||||||
| VACUÜMmaat | Model: Zdf-x-le, in China wordt gemaakt dat: Zdf-x-le | |||||||
| LINEAIRE IONENbron | 1 stuk die, plasma die + bijgestaan deposito schoonmaken vooraf behandelen | |||||||
| VEILIGHEIDSsysteem | Talrijke veiligheidskoppelingen om exploitanten en materiaal te beschermen | |||||||
| Het VERWARMEN | Verwarmers: 30KW. Max. temperaturen.: 450℃ | |||||||
| Het KOELEN | Industriële Harder (Koud Water) | |||||||
| MACHTSmax. | 100KW (ong.) | |||||||
| GEMIDDELDE MACHTSconsumptie | 45 kW (ong.) | |||||||
| BRUTOGEWICHT | T (ong.) | |||||||
| VOETdruk | (L*W*H) MM. VAN 4000*4000 *3200 | |||||||
| MACHT ELEKTRO | AC 380V/3 lijnen phases/50HZ/5 | |||||||
Hoog doelgebruik vlak het sputteren deposito: gelieve TE KLIKKEN HIER om op de video te letten
Lineair Ion Source Plasma Cleaning en Bijgestaan Deposito: gelieve TE KLIKKEN HIER om op video te letten
Tevreden om ons voor meer specificaties te contacteren, is de Koninklijke Technologie geëerd om u te verstrekken totale deklaagoplossingen.
