Tantalum (Ta) Thin Film Magnetron Sputtering Deposition System-RTSP1000

Afzetting van tantaalGoud en edelmetaal door sputtering 

Sputtering wordt veel gebruikt om vuurvaste metalen zoals tantaal, titanium, wolfraam te deponeren,Niobium, waarvoor zeer hoge afzettingstemperaturen vereist zijn, en edelmetaal: goud en zilver en die ook wordt gebruikt voor het afzetten van metalen met een lager smeltpunt zoals koper, aluminium, nikkel, chroom, enz.

Tantal wordt het meest gebruikt in de elektronische industrie. industrieals beschermende coating vanwege de goede weerstand tegen erosie.

Sputtered tantalum films worden veel gebruikt in de
1- de micro­elektronica­industrie, aangezien de folies reactief kunnen worden gespot en aldus de weerstand en de temperatuurcoëfficiënt van weerstand kunnen worden gecontroleerd;

2Medische instrumenten zoals lichaamsimplantaten vanwege de hoge biocompatibiliteit;

3. coatings op corrosiebestendige onderdelen, zoals thermowell, kleppen en bevestigingsmiddelen;

4.Sputtered tantaal kan ook worden gebruikt als een effectieve corrosiebestendigheidsbarrière als de coating is continu, defect en hecht aan het substraat is bedoeld om te beschermen.

Koninklijke technologie’Het is een gestandaardiseerd tantalumsputtering-afzettingssysteem: model RTSP1000.
 Eigenschappen van met tantalum gespotte folie:
Lage weerstand

Hoog corrosie- en slijtagebestendige coatings op het oppervlak die De Commissie heeft de Commissie verzocht om een verslag uit te brengen over de resultaten van de evaluatie. 

Ontwerpkenmerken:

Robuust ontwerp, stabiele kwaliteit, snelle cyclus, hoog nauwkeurig systeem

Vervaardiging:

Structuur van het coatingsysteem: verticale oriëntatie, achthoekige structuur, 2 deuren voor gemakkelijke toegang.

Milieuvriendelijk systeem, geen gevaarlijk afval.

Totale integratie, modulair ontwerp
Gecommercialiseerd en gestandaardiseerd voor industriële massaproductie
Zeer efficiënte ionenbron voor sterke hechting en hoge ionisatie.
Eenvoudige bediening: aanraakscherm + PLC-besturing, één aanraak
Speciaal ontwerp van Carousel-systeem voor een hoge uniformiteit van de afzetting.
Hoge productiviteit en stabiliteit, 24/7 werken.
Flexibel, geschikt voor verschillende maten platen

Belangrijkste onderdelen

Ionenbron voor geassisteerd deponeren:

Ionbron voor plasma-ittechingproces:

De RT1200-FCEV-machine is een batch-model sputtering systeem dat verschillende harde coatings, zachte coatings,samengestelde folies en vaste smeermiddelen op het substraat van metalen en niet-metalen materialen. Toegepaste industrieën voor waterstofbrandstofcellen, fotonische producten, lucht- en ruimtevaart en andere nieuwe energiesectoren.

Verwerking van de depositiefilms:

Om de geleidbaarheid van het oppervlak te verbeteren;

een hoge corrosiebestendigheid;

een hoge slijtvastheid;

Hoge hardheid

Hydrofobe compositiefilm en andere functionele films

Beschikbaar voor samengestelde coatings: metalen en niet-metalen films.

Filmdikte van 100 nm tot 12 μm, tolerantie ±5%

Sterke hechting.

oppervlakteverharding van onderdelen met een lage tempering.

Type:

Verticale oriëntatie, achtvormige structuur, twee deuren (voor en achter)

Ontwerpvoordelen:

• milieuvriendelijk systeem, geen industrieel afvalwater, luchtvervuiling en geluidsoverlast;
• Eenvoudige werking: Touchscreen + PLC-besturing en uniek softwareprogramma voor één aanraakoperatie, meer dan 80% alarm voor problemen.
• Tot 10 verwerkingsrecepten login en back-up; hoge herhaalbaarheid en diversiteit.
• Speciaal ontworpen carrousel systeem voor een hoge uniformiteit van de filmdepositie.
• Hoge productiviteit en hoge kwaliteit
• Stabiel en betrouwbaar systeem, 365 dagen * 24 uur (onderhouds- en reparatietijd)
• Efficiënt pompsysteem: kortere vacuümleidingen voor maximale snelheid met bekende Europese pompmerken
• Compact ontwerp neemt minimale installatie ruimte in beslag.

Het team van Royal Tech is vereerd u te kunnen bedienen met onze beste service en kennis.