logo
Bericht versturen

details van de producten

Created with Pixso. Huis Created with Pixso. Producten Created with Pixso.
machine van de magnetron de sputterende deklaag
Created with Pixso.

TaN Ta2O5 Optische films Magnetron Sputtering Depositiesysteem, Ion Beam Assistent Depositiesysteem

TaN Ta2O5 Optische films Magnetron Sputtering Depositiesysteem, Ion Beam Assistent Depositiesysteem

Merknaam: ROYAL
Modelnummer: RTSP1200
MOQ: 1 set
Prijs: onderhandelbaar
Betalingsvoorwaarden: L/C, T/T
Toeleveringsvermogen: 10 sets per maand
Gedetailleerde informatie
Plaats van herkomst:
Made in China
Certificering:
CE
Naam:
Tantaal PVD-sputtering afzetting machine
Deklagen:
Tantalum, goud, zilver enz.
Technologie:
Gepulseerd gelijkstroomsputtering
Toepassing:
Micro-elektronica, medische instrumenten, coatings op corrosiebestendige onderdelen,
Ta film eigenschappen:
Tantal wordt vooral in de elektronische industrie als beschermende coating gebruikt vanwege de goede
Fabriekslocatie:
De stad van Shanghai, China
De Dienst wereldwijd:
Polen - Europa; Van West- Iran Azië & Midden-Oosten, Turkije, India, Mexico Zuid-Amerika
De opleidende Dienst:
Machineverrichting, onderhoud, die procesrecepten, programma met een laag bedekken
Garantie:
Beperkte garantie 1 jaar voor het vrije, gehele leven voor machine
OEM & ODM:
beschikbaar, steunen wij op maat gemaakte ontwerp en vervaardiging
Verpakking Details:
De uitvoernorm, dat in nieuwe gevallen/kartons moet worden ingepakt, geschikt voor oceaan/lucht over
Levering vermogen:
10 sets per maand
Markeren:

TaN Magnetron Sputtering Deposition System

,

Ta2O5 Magnetron Sputtering Deposition System

Productbeschrijving

Magnetron Sputtering wordt veel gebruikt om vuurvaste metalen zoals tantaal, titanium, wolfraam te deponeren,Niobium, waarvoor zeer hoge afzettingstemperaturen vereist zijn, en edelmetaal: goud en zilver en die ook wordt gebruikt voor de afzetting van metalen met een lager smeltpunt zoals koper, aluminium, nikkel, chroom enz.

Tantal wordt het meest gebruikt in de elektronische industrie.industrieals beschermende coating vanwege de goede weerstand tegen erosie.

Toepassingen van Sputtered Tantalum thin film:
1- de micro­elektronica­industrie, aangezien de folies reactief kunnen worden gespuit en aldus de weerstand en de temperatuurcoëfficiënt van de weerstand kunnen worden gecontroleerd;

  1. Medische instrumenten zoals lichaamsimplantaten vanwege de hoge biocompatibiliteit;
  2. coatings op corrosiebestendige onderdelen, zoals thermowell, klepkarrosseriën en bevestigingsmiddelen;
  3. Sputtered tantaal kan ook worden gebruikt als een effectieve corrosiebestendigheidsbarrière als de coating is continu, defect en hecht aan het substraat is bedoeld om te beschermen.

5. halfgeleiderindustrie, micro-elektronische chips

 

Technische voordelen

  1. Er wordt een gestandaardiseerde trolley aangebracht die het gemakkelijk en veilig mogelijk maakt om de substraathouders en werkstukken in/uit de afzettingskamer te laden/ontladen
  2. Het systeem is veilig vergrendeld om onjuiste werking of onveilige praktijken te voorkomen.
  3. De substraatverwarmers zijn voorzien van een in het midden van de kamer gemonteerd, PID-gestuurd thermocouple voor een hoge nauwkeurigheid, om de condensfilms hechting te verbeteren
  4. Sterke vacuümpompconfiguraties met magnetisch ophangende moleculaire pomp via een hekklep verbonden met de kamer; ondersteund door de wortelpomp van Leybold's en de tweefasige rotatieve blaaspomp, mechanische pomp.
  5. Met dit systeem wordt een energiebron van geïoniseerd plasma toegepast om de uniformiteit en dichtheid te garanderen.


    TaN Ta2O5 Optische films Magnetron Sputtering Depositiesysteem, Ion Beam Assistent Depositiesysteem 0

 

Royal Technology's gestandaardiseerd tantale sputtering afzetting systeem: RTSP1000

Hoofdconfiguratie
Modellen RTSP1200
Technologie

Impulserende gelijkstroommagnetronsputtering

Kathodische boogplatering (optioneel, bepaald door coatingproces), ionstraalbron

Kamermateriaal Roestvrij staal (S304)
Grootte van de kamer Φ1200*1300 mm (H)
KAMERTYPE D-vorm, cilindrische kamer
Rotatie rack & JIG SYSTEM Satellietbesturing of centraal besturingssysteem
Vervaardiging van elektriciteit

Stroomvoorziening voor gelijkstroomsputtering: 2 tot 4 sets
Bias Stroomvoorziening: 1 set

Ionbron: 1 set

Inhoud van de aanvraag Ta, Ti/Cr/TiAl, Au, Ag, Cu enz.
De in de bijlage vermelde gegevens zijn van toepassing op de in de bijlage opgenomen gegevens. Planar Sputtering Cathodes + cirkelvormige boogcathodes
Controle PLC ((Programmable Logic Controller) + IPC
(handmatig + automatisch + semi-automatisch bedieningsmodellen)
POMPSYSTEM Roterende pomp: SV300B 1 set (Leybold)
Roots Pump: WAU1001 1 set (Leybold)
Houdpomp: D60C 1 set (Leybold)
Magnetische moleculaire suspensiepomp:
MAG2200 2 sest (Leybold)
GAS-MASSA FLOW CONTROLLER 2 kanalen: Ar en N2
VACUUM GAUGE Inficon of Leybold
Veiligheidssysteem Talrijke veiligheidssluitingen ter bescherming van bedieners en uitrusting
Verwarming Verwarming: 20 kW. Max. temp.: 450°C
Verwarming Industriële koelmachine (koud water)
Power Max. 100 kW (ongeveer.)
Gemiddeld energieverbruik 45 KW (ongeveer)
Bruto gewicht T (ongeveer)
Voetafdruk (L*W*H) 4000*4000*3600 MM
ELECTRISCH POWER

AC 380V/3 fasen/50HZ / 5 lijn

 

 

Neem contact met ons op voor meer toepassingen en specificaties.