|
| Merknaam: | ROYAL |
| Modelnummer: | RTAS1250 |
| MOQ: | 10 SET |
| Prijs: | onderhandelbaar |
| Betalingsvoorwaarden: | L/C, D/A, D/P, T/T |
| Toeleveringsvermogen: | 6 reeksen per Maand |
TiN-goud Middenfrequente Magnetron Sputtering Coating Machine / MF Sputtering System
Magnetron Sputtering Vacuum Coating is een soort PVD Ion Plating oppervlaktebehandeling methode.glasHet concept van sputtering: het coatingsmateriaal (doel, ook wel kathode genoemd) en de werkstukken (substraten,ook wel anode genoemd) worden in de vacuümkamer geplaatst en de druk wordt verlaagdHet sputteren wordt gestart door het doel onder een spanningsverschil te plaatsen en argongas in te voeren die argonionen vormt (glansontlading).De argonionen versnellen naar het procesdoel en verplaatsen de doelatomenDeze sputtering atomen worden vervolgens gecondenseerd op het substraat en vormen een zeer dunne en hoge uniformiteit laag.of acetyleen in spuitgassen tijdens het coatingproces.
Magnetron Sputtering Modellen: DC Sputtering, MF Sputtering, RF Sputtering
Wat is MF-sputtering?
In vergelijking met DC- en RF-sputtering is Mid-Frequency-sputtering de belangrijkste dunne filmsputteringstechniek geworden voor de massaproductie van coatings,met een gewicht van niet meer dan 10 kg,, zonnepanelen, meerdere lagen, film van composietmateriaal, enz.
Het vervangt RF-sputtering doordat het werkt met kHz in plaats van MHz voor een veel snellere afzettingshype en kan ook de Target-vergiftiging voorkomen tijdens samengestelde dunne film afzetting zoals DC.
MF-sputteringdoelen bestonden altijd met twee sets. Two cathodes are used with an AC current switched back and forth between them which cleans the target surface with each reversal to reduce the charge build up on dielectrics that leads to arcing which can spew droplets into the plasma and prevent uniform thin film growth--- which is what we called Target Poisoning.
Prestaties van het MF-sputtersysteem
1. Ultieme vacuümdruk: beter dan 5,0 × 10-6Torr.
2Werk vacuümdruk: 1,0 × 10-4Torr.
3. Pomptijd: van 1 atm tot 1,0 × 10-4Torr≤ 3 minuten (kamertemperatuur, droge, schone en lege kamer)
4Metaliseringsmateriaal (sputtering + boogverdamping): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, enz.
5Operatiemodel: volledig automatisch/semi-automatisch/handmatig
Structuur van het MF-sputtersysteem
De vacuümcoatingsmachine bevat het volgende compleet systeem:
1Vacuümkamer.
2. Ruwe vacuümpompinstallatie (backpumppakket)
3. Hoog vacuümpompsysteem (magnetisch ophangende moleculaire pomp)
4Elektrisch besturingssysteem
5. Hulpfaciliteitssysteem (subsysteem)
6Depositiesysteem: MF-sputterkatode, MF-stroomvoorziening, Bias-stroomvoorziening
MF-sputtering systeem RTSP1212-MF specificaties
| Modellen | RTSP1212-MF | ||||||
| Technologie | MF Magnetron Sputtering + Ion Plating | ||||||
| Materiaal | Roestvrij staal (S304) | ||||||
| Grootte van de kamer | Φ1250*H1250mm | ||||||
| KAMERTYPE | Cylinder, verticaal, 1 deur | ||||||
| SPUTTERSYSTEM | Exclusief ontworpen voor dunne zwarte folie | ||||||
| Inhoud van de aanvraag | Aluminium, zilver, koper, chroom, roestvrij staal, Nikkel |
||||||
| De in de bijlage vermelde gegevens zijn van toepassing op de in de bijlage opgenomen gegevens. | 2 sets MF cilindrische sputterdoelen + 8 geleide kathodische boogbronnen | ||||||
| GAS | MFC- 4 manieren, Ar, N2, O2, C2H2 | ||||||
| Controle | PLC ((Programmable Logic Controller) + | ||||||
| POMPSYSTEM | SV300B - 1 set (Leybold) | ||||||
| WAU1001 - 1 set (Leybold) | |||||||
| D60T- 2 sets (Leybold) | |||||||
| Turbomoleculaire pompen: 2* F-400/3500 | |||||||
| Voorbehandeling | Bias stroomvoorziening: 1*36 kW | ||||||
| Veiligheidssysteem | Talrijke veiligheidssluitingen ter bescherming van de gebruikers | ||||||
| Verwarming | Koud water | ||||||
| Elektrische energie | 480V/3 fasen/60HZ (VS-conform) | ||||||
| 460V/3 fasen/50HZ (Azië-conform) | |||||||
| 380V/3 fasen/50HZ (EU-CE-conform) | |||||||
| Voetafdruk | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
| Totaal gewicht | 7.0 T | ||||||
| Voetafdruk | (L*W*H) 5000*4000*4000 MM | ||||||
| CYCLUSTIME | 30 tot 40 minuten (afhankelijk van het substraatmateriaal, de geometrie van het substraat en de omgevingsomstandigheden) |
||||||
| Power Max. | 155 kW | ||||||
|
Gemiddeld vermogen |
75 kW |
We hebben meer modellen voor je keuze!
Neem contact met ons op voor meer specificaties, Royal Technology is vereerd om u complete coating oplossingen te bieden.
