Bericht versturen

details van de producten

Created with Pixso. Huis Created with Pixso. Producten Created with Pixso.
PVD-laboratoriumcoatingsmachine
Created with Pixso.

Laboratorium gelijkstroom en Sputterende de Deklaagmachine van rf, DC/MF die Lab.Coating-Eenheid, R&D-Laboratorium sputteren. Sputterend Systeem

Laboratorium gelijkstroom en Sputterende de Deklaagmachine van rf, DC/MF die Lab.Coating-Eenheid, R&D-Laboratorium sputteren. Sputterend Systeem

Merknaam: ROYAL
Modelnummer: Rtsp-400
MOQ: 1 set
Prijs: onderhandelbaar
Betalingsvoorwaarden: L/C, T/T
Toeleveringsvermogen: 10 sets per maand
Gedetailleerde informatie
Plaats van herkomst:
Made in China
Certificering:
CE certification
Kamer:
Horizontale richtlijn
Het sputteren Bronnen:
MF, GELIJKSTROOM EN RF
Sputterende Kathode:
Cirkel Vlaktype
sputterend doel:
Al2O3, TiO, ITO, Cr, Zr, Au-goud
Fabrieksplaats:
De stad van Shanghai, China
Fabrieksplaats:
De stad van Shanghai, China
Fabrieksplaats:
De stad van Shanghai, China
De Dienst wereldwijd:
Polen - Europa; Van West- Iran Azië & Midden-Oosten, Turkije, India, Mexico Zuid-Amerika
De opleidende Dienst:
Machineverrichting, onderhoud, die procesrecepten, programma met een laag bedekken
Garantie:
Beperkte garantie 1 jaar voor het vrije, gehele leven voor machine
Garantie:
Beperkte garantie 1 jaar voor het vrije, gehele leven voor machine
OEM & ODM:
beschikbaar, steunen wij op maat gemaakte ontwerp en vervaardiging
Verpakking Details:
De uitvoernorm, dat in nieuwe gevallen/kartons moet worden ingepakt, geschikt voor oceaan/lucht over
Levering vermogen:
10 sets per maand
Markeren:

magnetron sputtering equipment

,

vacuum deposition equipment

Productbeschrijving

                                       Laboratoriummagnetron die Vacuümdeklaagsysteem sputteren 

 

 

1. Het sputterende systeem van UHV is uitgerust met

  • De sputterende kanonnen van gelijkstroom om de semi-geleidende en niet geleidende materialen (Si, SiO2, Al2O3, Si3N4, Cr2O3, ITO en andere materialen) te deponeren.
  • Het sputterende kanon van rf om het geleidende materiële Aluminium, Zilveren, Gouden enz. te deponeren.
  • De de voedingbronnen van gelijkstroom en rf-kunnen geruilde flexibel zijn.

 

2. De UHV-het sputteren systeemtoepassingen van

  • Geleidende deklagen op polymere materialen, hout, stoffen bij lage temperaturen minder dan 100 ℃

         Toepassing van geleidende deklagen op glas, keramiek en andere diëlektrische materialen.

 

Laboratorium gelijkstroom en Sputterende de Deklaagmachine van rf, DC/MF die Lab.Coating-Eenheid, R&D-Laboratorium sputteren. Sputterend Systeem 0

 

3. Technische Prestaties:

 

3. 1 uiteindelijke Vacuümdruk: dan beter 5.0×10-6 Torr.

3. 2. Werkende Vacuümdruk: 1.0×10-4 torr.

3. 3. Pumpingdowntijd: van 1 ATM aan 1.0×10-4 Torr≤ 3 minuten (kamertemperatuur, droge, schone en lege kamer)

3. 4. Metalizings materieel (sputterend) Al, Cr, Sn, Ti, SS, Cu… enz.

3. 5. Werkend Model: Volledig automatisch /Semi-Auto/ manueel

 

4. Structuur

UHV die vacuümdeklaagmachine sputteren bevat zeer belangrijk voltooid hieronder vermeld systeem:

1. Luchtledige kamer

2. Rouhgings Vacuüm Pompend Systeem (Steunend Pomppakket)

3. Hoog Vacuüm Pompend Systeem (Verspreidingspomp)

4. Elektrocontrole en Verrichtingssysteem

5. Het Systeem van de Auxiliarryfaciliteit (Subsysteem)

6. Depositosysteem

 

 

Voor meer specificaties, gelieve ons te contacteren. De aangepaste onderzoeken worden ingestemd met.